量子点材料、量子点图案化方法、发光器件及显示装置制造方法及图纸

技术编号:43922409 阅读:23 留言:0更新日期:2025-01-03 13:26
本申请公开了量子点材料、量子点图案化方法、发光器件及显示装置,量子点材料包括:量子点本体以及与量子点本体连接的至少一光敏基团;其中,光敏基团为螺吡喃基团,螺吡喃基团在不同预设条件下发生开环反应或闭环反应。本申请通过在量子点本体上修饰光敏基团,且光敏基团为螺吡喃基团,能够利用螺吡喃基团在不同预设条件下发生开环反应或闭环反应的特性,通过改变相应区域内量子点材料的极性以改变相应区域内量子点材料的溶解性,以提高保留区域的抗显影性能,从而实现量子点膜层的图案化。进一步地,由于保留区域的抗显影性能得到提升,因而能够降低显影液对保留区域量子点薄膜造成破坏的概率,继而提高显示器件的分辨率以及显示效果。

【技术实现步骤摘要】

本申请涉及显示,尤其是涉及量子点材料、量子点图案化方法、发光器件及显示装置


技术介绍

1、半导体量子点(quantum dot,qd)是一种重要的荧光纳米材料,将量子点材料作为发光层材料,应用于光电显示领域,逐渐成为未来发展的趋势。

2、现有技术中,通常通过喷墨打印的方式实现量子点的图案化工艺。然而,现有技术无法制作高分辨率且性能良好的量子点。


技术实现思路

1、为了解决上述问题或其他问题,本申请提供了以下技术方案。

2、本申请采用的第一技术方案是提供一种量子点材料,包括:量子点本体;以及,至少一光敏基团,光敏基团与量子点本体连接;其中,光敏基团为螺吡喃基团,螺吡喃基团在不同预设条件下发生开环反应或闭环反应。

3、其中,预设条件包括紫外光照射和可见光照射,其中:螺吡喃基团在紫外光照射下发生开环反应,螺吡喃基团在可见光照射下发生闭环反应。

4、其中,螺吡喃基团包括:氧杂原子;以及,苯环,与氧杂原子连接;其中,苯环上修饰有至少一个给电子基团;其中,给电子基团修饰在本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种量子点材料,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的量子点材料,其特征在于,

3.根据权利要求1所述的量子点材料,其特征在于,

4.根据权利要求2所述的量子点材料,其特征在于,

5.根据权利要求1所述的量子点材料,其特征在于,

6.一种量子点图案化方法,其特征在于,包括:

7.根据权利要求6所述的量子点图案化方法,其特征在于,

8.根据权利要求7所述的量子点图案化方法,其特征在于,

9.一种发光器件,所述发光器件包括基板、依次层叠设置在所述基板上的阳极、发光层以及阴极,所述发光层包...

【技术特征摘要】

1.一种量子点材料,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的量子点材料,其特征在于,

3.根据权利要求1所述的量子点材料,其特征在于,

4.根据权利要求2所述的量子点材料,其特征在于,

5.根据权利要求1所述的量子点材料,其特征在于,

6.一种量子点图案化方法,其特征在于,包括:

【专利技术属性】
技术研发人员:焦福星颜志敏
申请(专利权)人:云谷固安科技有限公司
类型:发明
国别省市:

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