一种射频能量馈入系统及镀膜设备技术方案

本申请公开了一种射频能量馈入系统及镀膜设备，其中，射频能量馈入系统包括：匹配器组件，包括：匹配器本体和与匹配器本体连接的连接组件，匹配器本体用于与电源连接；馈入组件，包括导电柱和连接件，导电柱的一端用于与连接组件连接，导电柱的另一端具有连接座，连接件具有接入部和接触部，其中，接入部连接于连接座，连接件具有接触部，接触部的一端与接入部连接，接触部的另一端沿连接件的长度方向可调延伸距离，接触部用于与电极板抵接。本申请实施例中，接触部沿连接件的长度方向可调延伸距离，可以改变接触部与电极板的接入位置，从而能够对出现驻波效应的接入区域进行调整或更改，有助于减少驻波效应的影响，利于使电场均匀分布，以提高镀膜的均匀性。

【技术实现步骤摘要】

本申请涉及镀膜设备，特别涉及一种射频能量馈入系统及镀膜设备。

技术介绍

1、相关技术中，镀膜不均匀是所有镀膜设备的共同难题，而镀膜不均匀主要表现在两个方面：其一是膜层厚度的不均匀，其二是等离子体的分布不均匀。为了实现膜层厚度均匀以及等离子体均匀分布，通常通过喷涂系统控制膜层厚度的均匀性、通过电场系统控制等离子体均匀分布。

2、现有技术中，镀膜设备的馈入结构通常采用单一组件与上极板进行连接，或是采用多个馈入连接结构与电场系统的上极板进行连接。其中，采用单一组件与上极板连接时，单一馈入点时，容易造成镀膜腔体内部产生驻波效应，导致等离子体电离后的镀膜效果差的问题；采用多个馈入连接结构与电极板连接时，各个馈入连接结构的电场叠加后，也会存在电场分布不均的问题，进而影响镀膜效果。

技术实现思路

1、本申请旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本申请提出一种射频能量馈入系统及镀膜设备，通过提高馈入电流的均匀性，以有效提高镀膜的均匀性。

2、本申请还提出一种具有上述射频能量馈入系统的镀膜设备本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种射频能量馈入系统，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的射频能量馈入系统，其特征在于，所述接入部(221)和所述接触部(222)之间设置有衔接部(223)，所述衔接部(223)弯曲设置，以使所述接触部(222)与所述接入部(221)在厚度方向上具有间隔。

3.根据权利要求1所述的射频能量馈入系统，其特征在于，所述连接件(220)至少具有两个接触部(222)，每个所述接触部(222)绕所述导电柱(210)的外周可旋转的间隔设置。

4.根据权利要求1至3任一项所述的射频能量馈入系统，其特征在于，若干个所述连接件(220)的接入部(221)层叠...

【技术特征摘要】

1.一种射频能量馈入系统，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的射频能量馈入系统，其特征在于，所述接入部(221)和所述接触部(222)之间设置有衔接部(223)，所述衔接部(223)弯曲设置，以使所述接触部(222)与所述接入部(221)在厚度方向上具有间隔。

3.根据权利要求1所述的射频能量馈入系统，其特征在于，所述连接件(220)至少具有两个接触部(222)，每个所述接触部(222)绕所述导电柱(210)的外周可旋转的间隔设置。

4.根据权利要求1至3任一项所述的射频能量馈入系统，其特征在于，若干个所述连接件(220)的接入部(221)层叠设置。

5.根据权利要求1所述的射频能量馈入系统，其特征在于，所述连接座(211)设置有第一连接孔(2111)，所述第一连接孔(2111)用于安装所述连接件(220)，所述连接件(220)的所述接入部(221)可调节接入所述第一连接孔(2111)。

6.根据权利要求5所述的射频能量馈入系统，其特征在于，...

【专利技术属性】
技术研发人员：请求不公布姓名，请求不公布姓名，请求不公布姓名，
申请(专利权)人：广东利元亨智能装备股份有限公司，
类型：新型
国别省市：