【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及高分子材料领域，具体涉及一种具备可自擦除表面微结构的双层膜体系材料的制备方法及应用。
技术介绍
1、在聚合物弹性体表面构建多层次微结构可以有效改变材料的光学透过率和表面润湿性能。然而，目前的表面微结构构造方法主要依赖于旋涂法或光刻法。旋涂法对基底材料的表面粗糙度和润湿性有较高要求，而光刻法则需要高成本的精细加工设备，不利于大规模生产。
2、有鉴于此，本专利技术开发了一种针对聚合物表面的微结构构造方法，该方法具有成本低廉、制备过程简单的优势。此外，通过在聚合物表面构造微结构，可以调控材料的光学性能，从而制备出光学加密材料。
技术实现思路
1、本专利技术的目的在于针对传统的聚二甲基硅氧烷材料的低表面能导致的低粘附性的问题，以及传统工艺构建聚合物双层膜体系对操作工艺的复杂程度导致难以大规模生产，高成本等问题，构建了一种具备独特性、实用性的聚合物表面微结构，不仅生产成本低，而且制备过程便捷，易于大规模生产，在光学加密领域具有很好的应用前景。
2、为实现上述目的...
【技术保护点】
1.一种具备可自擦除表面微结构的双层膜体系材料的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
2.根据权利要求1所述的具备可自擦除表面微结构的双层膜体系材料的制备方法，其特征在于，所述光引发剂为二苯甲酮、2,4-二羟基二苯甲酮、米蚩酮、2-氯硫杂蒽酮、异丙基硫杂蒽酮、乙基硫杂蒽酮、丁基硫杂蒽酮、2,4-二乙基硫杂蒽酮中的一种。
3.根据权利要求1所述的具备可自擦除表面微结构的双层膜体系材料的制备方法，其特征在于，光引发剂在弹性体中的质量占比为0.1-1％。
4.根据权利要求1所述的具备可自擦除表面微结构的双层膜体系材料的制备方法，其特征在于...
【技术特征摘要】
1.一种具备可自擦除表面微结构的双层膜体系材料的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
2.根据权利要求1所述的具备可自擦除表面微结构的双层膜体系材料的制备方法，其特征在于，所述光引发剂为二苯甲酮、2,4-二羟基二苯甲酮、米蚩酮、2-氯硫杂蒽酮、异丙基硫杂蒽酮、乙基硫杂蒽酮、丁基硫杂蒽酮、2,4-二乙基硫杂蒽酮中的一种。
3.根据权利要求1所述的具备可自擦除表面微结构的双层膜体系材料的制备方法，其特征在于，光引发剂在弹性体中的质量占比为0.1-1％。
4.根据权利要求1所述的具备可自擦除表面微结构的双层膜体系材料的制备方法，其特征在于，步骤s1中，交联固化的温度为50-60℃。
5.根据权利要求1所述的具备可自擦除表面微结构的双层膜体系材料的制备方法，其特征在于，步骤s2中，配制的单体溶液浓度为10-20wt％。
6.根据权利要求1所述的具备可自擦除表面微结构的双层膜体系材料的制备方法，其特征在于，步骤s2中，α-烯烃单体为丙烯酰胺或4-羟基丁基丙烯酸酯。
7.根据权利要求1所述的具备...
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