一种CMP抛光过滤器堵塞自动检测调控系统技术方案

本发明专利技术提供了一种CMP抛光过滤器堵塞自动检测调控系统，涉及抛光设备技术领域。包括控制单元、储液装置、泵体以及CMP抛光装置，所述泵体适于将所述储液装置内的抛光液输送至所述CMP抛光装置内，所述泵体与所述CMP抛光装置之间还设置有自动调控装置、过滤单元、自动检测堵塞装置；通过该系统能够监测抛光液的流动性和过滤器的压力差，实时检测出过滤网的通流情况，一旦检测到过滤效率下降或流速异常，系统便自动进行调控，可能的措施包括调整抛光液的流速、增加过滤网清洁频次或报警提示需更换过滤器。这种自动化的反馈机制确保了抛光液的稳定供应，从而大幅提高了抛光过程的可控性和重复性，保证了最终产品的质量稳定性。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及抛光设备，具体而言，涉及一种cmp抛光过滤器堵塞自动检测调控系统。

技术介绍

1、在半导体行业中，芯片的性能和可靠性是产品竞争力的关键因素。芯片的性能优势不仅能提高计算速度和能效，还能增强终端产品的多功能性和响应速度，使之广泛应用于智能手机、计算机、汽车电子及各种物联网设备中。芯片的生产基础在于衬底的制备，衬底的质量直接关系到芯片的整体性能。

2、在衬底制造的多个步骤中，cmp技术是实现高平整度和超细表面质量的关键工艺，cmp不仅能够有效去除表面材料，还能平滑衬底表面，为后续的微细加工奠定基础。cmp技术结合了化学腐蚀和物理磨削两种机制，以实现高精度的表面加工。衬底表面首先与抛光液中的化学试剂发生反应，形成一层易于机械去除的化学改性膜，随后抛光垫上的磨粒在外力作用下，通过机械运动将这层膜物理去除，从而实现衬底表面的平整化和微观结构的优化。在此过程中，抛光液的稳定性至关重要。抛光液不仅需要保持恒定的化学性质以促进均匀的化学反应，还需保持适宜的流动性和悬浮性，以确保磨粒能均匀作用于衬底表面。但是，由于抛光液在循环使用过程中会不断吸附来本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种CMP抛光过滤器堵塞自动检测调控系统，包括控制单元、储液装置、泵体以及CMP抛光装置，所述泵体适于将所述储液装置内的抛光液输送至所述CMP抛光装置内，其特征在于，所述泵体与所述CMP抛光装置之间还设置有自动调控装置、过滤单元、自动检测堵塞装置；其中，

2.根据权利要求1所述的CMP抛光过滤器堵塞自动检测调控系统，其特征在于，所述的过滤单元采用多级过滤系统，所述过滤单元包含至少五个过滤器，分别为100目、500目、1000目、5000目、10000目的过滤器，不同目数的过滤器沿抛光液的流动方向目数数量逐级升高设置，以用于过滤不同粒径的颗粒。

<p>3.根据权利要求...

【技术特征摘要】

1.一种cmp抛光过滤器堵塞自动检测调控系统，包括控制单元、储液装置、泵体以及cmp抛光装置，所述泵体适于将所述储液装置内的抛光液输送至所述cmp抛光装置内，其特征在于，所述泵体与所述cmp抛光装置之间还设置有自动调控装置、过滤单元、自动检测堵塞装置；其中，

2.根据权利要求1所述的cmp抛光过滤器堵塞自动检测调控系统，其特征在于，所述的过滤单元采用多级过滤系统，所述过滤单元包含至少五个过滤器，分别为100目、500目、1000目、5000目、10000目的过滤器，不同目数的过滤器沿抛光液的流动方向目数数量逐级升高设置，以用于过滤不同粒径的颗粒。

3.根据权利要求1所述的cmp抛光过滤器堵塞自动检测调控系统，其特征在于，自动检测堵塞装置采用超声流量计，所述超声流量计通过超声波传感器发送和接收超声波信号，通过测量信号的传播时间和频率以计算流体的流速和体积流量，且所述自动检测堵塞装置的输出端与控制单元的输入模块相连，实时将抛光液的流量大小数据传输至所述控制单元，方便监测和控制。

4.权利要求1所述的cmp抛光过滤器堵塞自动检测调控系统，其特征在于，所述自动调控装置为电动执行阀，包括控制电路、电机、阀门以及反馈装置；所述控制单元的一个输出接口与自动调控装置的控制电路的输入端相连以接收阀门开度信息，并控制电机旋转相应的角度控制阀门的开度，以调节抛光液的流量，进而维持过滤单元的...

【专利技术属性】
技术研发人员：任明元，梁春，张景斌，刘文平，
申请(专利权)人：苏州博宏源设备股份有限公司，
类型：发明
国别省市：