一种制备高致密均匀氮化硼纳米管薄膜的方法技术

技术编号:43898240 阅读:16 留言:0更新日期:2025-01-03 13:11
本发明专利技术公开了一种制备高致密均匀氮化硼纳米管薄膜的方法。该方法采用高温退火法,利用不锈钢基底预先进行电化学抛光,经双催化剂源体混合浸润表面后放入管式炉高温区域进行氮化硼纳米管的生长,即可得到高致密氮化硼纳米管薄膜。在不锈钢表面上催化剂与源体混合物会形成三角、四边等多种成核团簇,在团簇上形成成核位点,生成氮化硼纳米管,最终形成一整片均匀致密的氮化硼纳米管薄膜,氮化硼纳米管具有优异的机械、光学和热力学性能,在纳米光子学和微电子器件等方面都具有极高的应用潜力。本发明专利技术制备工艺简单快捷且成本低,为氮化硼纳米管材料的产业化应用提供了进一步可能。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于材料领域,涉及一种制备氮化硼纳米管的方法,尤其是涉及一种制备高致密均匀氮化硼纳米管薄膜的方法


技术介绍

1、氮化硼纳米管与碳纳米管结构类似,都是由六角形的晶格结构卷曲形成的管状纳米材料。氮化硼纳米管的基本晶格是由硼原子和氮原子交替排列的六边形网络,形成sp2杂化的强共价键。氮化硼纳米管的高热导率和热稳定性使其成为理想的热管理材料,可以用于电子设备的散热和其他高温环境中的热防护材料。氮化硼纳米管中红外光学透明性和红外活性,它适合用于红外波段的光学器件,例如红外探测器、滤光片和光学传感器。尽管氮化硼纳米管在理论上表现出优异性能,但其在实际应用中的研究和开发尚处于早期阶段,现有的氮化硼纳米管的制备过程较为复杂、产量低且不均匀,尤其是与碳纳米管相比,bnnt的制备方法尚未被充分挖掘。本专利技术采用简单高效的方法,实现氮化硼纳米管的高致密均匀薄膜制备,为氮化硼纳米管在高科技领域(如航空航天、电子器件、红外光学和能源材料)发挥重要作用提供重要参考。


技术实现思路

1、本专利技术的目的是提供一种制备高致密均本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种制备高致密均匀氮化硼纳米管薄膜的方法,其特征在于:所述的不锈钢基底需要进行电化学抛光,将双催化剂和源体混合浸润基底表面,再利用高温退火法进行氮化硼纳米管的生长,即得。

2.根据权利要求1所述的一种制备高致密均匀氮化硼纳米管薄膜的方法,其特征在于:所述的不锈钢基底为304或316不锈钢,厚度为100-1500μm。

3.根据权利要求1所述的一种制备高致密均匀氮化硼纳米管薄膜的方法,其特征在于:所述的电化学抛光所用的抛光液由去离子水、磷酸、乙醇、异丙醇和尿素组成,具体用量毫升比为9:10:5:2,尿素的用量为其他组分总量每百毫升为0.8-1.0g。

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【技术特征摘要】

1.一种制备高致密均匀氮化硼纳米管薄膜的方法,其特征在于:所述的不锈钢基底需要进行电化学抛光,将双催化剂和源体混合浸润基底表面,再利用高温退火法进行氮化硼纳米管的生长,即得。

2.根据权利要求1所述的一种制备高致密均匀氮化硼纳米管薄膜的方法,其特征在于:所述的不锈钢基底为304或316不锈钢,厚度为100-1500μm。

3.根据权利要求1所述的一种制备高致密均匀氮化硼纳米管薄膜的方法,其特征在于:所述的电化学抛光所用的抛光液由去离子水、磷酸、乙醇、异丙醇和尿素组成,具体用量毫升比为9:10:5:2,尿素的用量为其他组分总量每百毫升为0.8-1.0g。

4.根据权利要求1-3中所述的一种制备高致密均匀氮化硼纳米管薄膜的方法,其特征在于:所述的电化学抛光电压为10...

【专利技术属性】
技术研发人员:李玲
申请(专利权)人:哈尔滨工业大学
类型:发明
国别省市:

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