【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及ltcc基板制造,具体涉及一种ltcc基板叠层对位偏差量的计算方法。
技术介绍
1、ltcc基板由于其优异的微波介电性能被广泛应用于tr组件及各种无源片式元件等领域,其基板的加工制造方式为对每一层ltcc生瓷片进行通孔填充以及表面印刷金属浆料从而实现金属化,随后将不同层按照设计顺序堆叠在一起后烧结为致密的多层基板。ltcc基板的主要加工流程为:首先,在ltcc生瓷片上采用激光或者机械的方式冲出圆形通孔;随后,用金属浆料对孔进行填充,起到不同层间上下互联的作用;接着,在每层生瓷片表面印刷设计好的导体布线,浆料导体烘干后对所有生瓷片逐层叠压;然后,再进行共烧,划片,后印,后烧等工序;最终,加工为所需的多层基板。
2、根据设计要求,ltcc多层基板的层数范围通常为6层-30层左右,在逐层叠压过程中,部分层在水平方向会存在不同程度的位置偏差,由此则会带来不同层间填充金属浆料的通孔在水平方向上发生偏移。对于有对位精度严格要求的基板,需要确定每只基板最后的实际叠层偏移量,同时对于生产成本控制而言,如果叠压后有较好的方法可以
...【技术保护点】
1.一种LTCC基板叠层对位偏差量的计算方法,其特征在于,该方法包括以下步骤:
2.根据权利要求1所述的LTCC基板叠层对位偏差量的计算方法,其特征在于,
3.根据权利要求1所述的LTCC基板叠层对位偏差量的计算方法,其特征在于,
4.根据权利要求1所述的LTCC基板叠层对位偏差量的计算方法,其特征在于,所述步骤S1中,每组叠压对位孔包括5个圆形对位孔。
5.根据权利要求1所述的LTCC基板叠层对位偏差量的计算方法,其特征在于,
6.根据权利要求1所述的LTCC基板叠层对位偏差量的计算方法,其特征在于,
>7.根据权利...
【技术特征摘要】
1.一种ltcc基板叠层对位偏差量的计算方法,其特征在于,该方法包括以下步骤:
2.根据权利要求1所述的ltcc基板叠层对位偏差量的计算方法,其特征在于,
3.根据权利要求1所述的ltcc基板叠层对位偏差量的计算方法,其特征在于,
4.根据权利要求1所述的ltcc基板叠层对位偏差量的计算方法,其特征在于,所述步骤s1中,每组叠压对位孔...
【专利技术属性】
技术研发人员:兰耀海,吕洋,沐方清,马涛,王飞,
申请(专利权)人:中国电子科技集团公司第四十三研究所,
类型:发明
国别省市:
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