【技术实现步骤摘要】
本技术涉及微纳沟槽结构制备，尤其是指一种无掩模双光束干涉系统。
技术介绍
1、材料与结构在微纳米尺度展现了许多不同于宏观尺度的新特征，微、纳米尺度的表面结构优化可以有效改善材料表面性能，微纳结构功能表面研究已经成为当前科学研究与工业开发的热门领域之一。其中，固体材料表面构建微纳沟槽结构，改变光学、润湿特性和生物相容性的研究一直是表面工程领域的重要研究问题，其在航空、航天、生物、医学及能源材料等相关领域展现出了实际应用价值。目前，大面积微纳沟槽结构表面的可控制备系统，是其推广应用和市场化的关键。
2、基于激光的相干性原理，双光束干涉可以在干涉场内形成周期性结构，其最小结构周期接近二分之一激光波长，单次曝光可以制造大面积周期性的一维线状或者槽状结构，在技术成本上相比超快激光扫描加工、离子束刻蚀和电子束刻蚀低很多，适合大面积加工，例如中国专利文献公告号cn218332292u，公开了一种激光干涉光刻系统，包括：激光器、45°全反镜、立方分束棱镜、衰减片、扩束镜、反射镜、准直透镜、第剪板式准直仪、基片夹持框、电动转台、角度微调楔角镜...
【技术保护点】
1.一种无掩模双光束干涉系统，其特征在于：包括：激光器、第一高反镜、第二高反镜、半反半透镜、第三高反镜、第四高反镜、第一1/2波片、第一偏振片、第二1/2波片、第二偏振片和样品台；
2.根据权利要求1所述的无掩模双光束干涉系统，其特征在于：所述第一1/2波片和第一偏振片构成第一镜组，所述第一1/2波片和第一偏振片平行设置。
3.根据权利要求2所述的无掩模双光束干涉系统，其特征在于：所述第二1/2波片和第二偏振片构成第二镜组，所述第二1/2波片和第二偏振片平行设置。
4.根据权利要求1所述的无掩模双光束干涉系统，其特征在于：所述半反半...
【技术特征摘要】
1.一种无掩模双光束干涉系统，其特征在于：包括：激光器、第一高反镜、第二高反镜、半反半透镜、第三高反镜、第四高反镜、第一1/2波片、第一偏振片、第二1/2波片、第二偏振片和样品台；
2.根据权利要求1所述的无掩模双光束干涉系统，其特征在于：所述第一1/2波片和第一偏振片构成第一镜组，所述第一1/2波片和第一偏振片平行设置。
3.根据权利要求2所述的无掩模双光束干涉系统，其特征在于：所述第二1/2波片和第二偏振片构成第二镜组，所述第二1/2波片和第二偏振片平行设置。
4.根据权利要求1所述的无掩模双光束干涉系统，其特征在于：所述半反半透镜和样品台之间的连线为第一方向。
5.根据权利要求4所述的无掩模双光束干涉系统，其特征在于：所述第三高反镜和第四高反镜之间的连线为第二方向，所述第二方向和第一方向垂直设置。
6.根据权利要求3所述的无掩模双光束干涉系统，其特征在于：所述第一镜组和第二镜组分别位于第一方向的两侧。
7.根据权...
【专利技术属性】
技术研发人员：王茵，李文君，蔡梦涵，王玉珏，陈思思，潘炜，许孝芳，左青卉，张鑫扬，
申请(专利权)人：苏州城市学院，
类型：新型
国别省市：
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