包含水和含氟聚合物的组合物制造技术

本发明专利技术涉及包含水和含氟聚合物的组合物，所述含氟聚合物是包含来自通式(1)所示的单体的结构单元M3的聚合物。CX2＝CY(‑CZ2‑O‑Rf‑A)(1)(式中，X相同或不同，为‑H或‑F，Y为‑H、‑F、烷基或含氟烷基，Z相同或不同，为‑H、‑F、烷基或氟代烷基。Rf是碳原子数为1～40的含氟亚烷基、或碳原子数为2～100的具有醚键的含氟亚烷基。A为‑COOM、‑SO3M、‑OSO3M或‑C(CF3)2OM(M为‑H、金属原子、‑NR74、具有或不具有取代基的咪唑鎓、具有或不具有取代基的吡啶鎓或者具有或不具有取代基的磷鎓，R7为H或有机基团)。其中，X、Y和Z中的至少一者包含氟原子)。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及组合物的制造方法和组合物。

技术介绍

1、近年来，具有磺酸基、羧基的含氟聚合物作为燃料电池、化学传感器等的电解质膜等的材料受到注目，正在对此进行研究。

2、例如，专利文献1中记载了一种含氟聚合物分散体制造方法，其为具有酸处理工序的含氟聚合物分散体制造方法，该酸处理工序为：向包含含氟聚合物前体的水系分散体中添加酸，进行超滤，该含氟聚合物分散体制造方法的特征在于，

3、上述含氟聚合物前体具有-so3x1和/或-cooz1(x1表示m11/l或nr1r2r3r4，r1、r2、r3和r4相同或不同，表示氢原子或碳原子数为1～4的烷基。z1表示m21/l或nr5r6r7r8，r5、r6、r7和r8相同或不同，表示氢原子或碳原子数为1～4的烷基。m1和m2相同或不同，表示l价的金属，上述l价的金属为属于元素周期表的1族、2族、4族、8族、11族、12族、13族的金属)，上述酸处理工序使上述-so3x1变化为-so3h和/或使上述-cooz1变化为-cooh。

4、专利文献2中记载了一种光致抗蚀剂上层防反射膜形成用涂布组本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种组合物，其特征在于，其包含水和含氟聚合物，所述含氟聚合物是包含来自通式(1)所示的单体的结构单元M3的聚合物，

2.如权利要求1所述的组合物，其中，分子量为400以上3000以下的化合物的含量相对于所述含氟聚合物为3.7％以下。

3.如权利要求1所述的组合物，其中，分子量为700以上且小于10000的化合物的含量相对于所述含氟聚合物为5.0％以下。

4.如权利要求1～3中任一项所述的组合物，其中，在通式(1)中，X中的至少一个为-H。

5.如权利要求1～3中任一项所述的组合物，其中，在通式(1)中，两个X为-H。

6.如...

【技术特征摘要】

1.一种组合物，其特征在于，其包含水和含氟聚合物，所述含氟聚合物是包含来自通式(1)所示的单体的结构单元m3的聚合物，

2.如权利要求1所述的组合物，其中，分子量为400以上3000以下的化合物的含量相对于所述含氟聚合物为3.7％以下。

3.如权利要求1所述的组合物，其中，分子量为700以上且小于10000的化合物的含量相对于所述含氟聚合物为5.0％以下。

4.如权利要求1～3中任一项所述的组合物，其中，在通式(1)中，x中的至少一个为-h。

5.如权利要求1～3中任一项所述的组合物，其中，在通式(1)中，两个x为-h。

6.如权利要求1～3中任一项所述的组合物，其中，在通式(1)中，rf是碳原子数为1～10的含氟亚烷基或具有醚键的碳原子数为2～12的含氟亚烷基。

7.如权利要求1～3中任一项所述的组合物，其中，结构单元m3是基于下述通式(1a)所示的单体的结构单元(1a)，

8.如权利要求1～3中任一项所述的组合物，其中，结构单元m3是基于下述通式(1a)所示的氟代烯丙基醚化合物的结构单元(1a)，

9.如权利要求1～3中任一项所述的组合物，其中，a为-coom。

10.如权利要求1～3中任一项所述的组合物，其中，m为-h、-na、-k、-li或-nh4。

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【专利技术属性】
技术研发人员：东昌弘，石原寿美，米田聪，岸川洋介，青山博一，
申请(专利权)人：大金工业株式会社，
类型：发明
国别省市：