一种耦合器平坦度调节方法、装置、介质及设备制造方法及图纸

技术编号:43761350 阅读:22 留言:0更新日期:2024-12-24 16:04
本发明专利技术属于耦合器领域,为解决现有耦合器平坦度调节技术需要较高的设计水平和制造能力且耦合器整体的制造成本大的问题,提供了一种耦合器平坦度调节方法、装置、介质及设备。其中,耦合器平坦度调节方法包括根据待调节的耦合器的已知频率范围,确定耦合器均衡电路模型,构建耦合器相对应的二端口网络;基于二端口网络的S参数,仿真模拟调整耦合器的各元器件参数,得到使得二端口网络的反射系数为零的若干组耦合器的各元器件参数配比方案,计算相应方案所对应的实际耦合器电路的反射系数,确定调节方向。本发明专利技术不需要较高的设计水平和制造能力,且能够降低耦合器整体的制造成本。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于耦合器领域,尤其涉及一种耦合器平坦度调节方法、装置、介质及设备


技术介绍

1、本部分的陈述仅仅是提供了与本专利技术相关的
技术介绍
信息,不必然构成在先技术。

2、耦合器是以光为媒介传输电信号的功率分配元器件。耦合器把发光源和受光器组装在同一密闭的壳体内,彼此间用透明绝缘体隔离。耦合器对输入信号和输出电信号有良好的隔离作用,输出信号对输入端无影响,抗干扰能力强,工作稳定,无触点,使用寿命长且传输效率高。

3、目前对耦合器的平坦度调整的技术方案包括优化结构设计和改进制造工艺这两种方案。其中,采用优化结构设计这种方案,引入同轴谐振腔和调整耦合区域,通过在耦合器中引入同轴谐振腔,可以筛选通带频率,从而提高耦合平坦度。但是,优化结构设计这种方案的局限性在于,会引入复杂结构(如同轴谐振腔等),而且需要较高的设计水平和制造能力。同时,对耦合区域和耦合元件的微调也需要丰富的经验和专业知识。对于改进制造工艺该方案,需要在制造过程中严格控制加工参数、检测工艺和使用环境,确保耦合器的制造质量符合设计要求,但是,高精度加工和高质量材料通常意味本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种耦合器平坦度调节方法,其特征在于,包括:

2.如权利要求1所述的耦合器平坦度调节方法,其特征在于,所述耦合器均衡电路模型的构成过程为:

3.如权利要求1所述的耦合器平坦度调节方法,其特征在于,所述耦合器均衡电路模型包括同轴传输部、正向调节单元和反向调节单元;

4.如权利要求3所述的耦合器平坦度调节方法,其特征在于,所述同轴传输部由一根同轴导体构成,用于接入待测的传输电路;所述正向容值调节部、正向电感调节部和正向电阻调节部均用于调节正向阻抗匹配;所述反向容值调节部、反向电感调节部和反向电阻调节部均用于调节反向阻抗匹配。

5.一种耦合器...

【技术特征摘要】

1.一种耦合器平坦度调节方法,其特征在于,包括:

2.如权利要求1所述的耦合器平坦度调节方法,其特征在于,所述耦合器均衡电路模型的构成过程为:

3.如权利要求1所述的耦合器平坦度调节方法,其特征在于,所述耦合器均衡电路模型包括同轴传输部、正向调节单元和反向调节单元;

4.如权利要求3所述的耦合器平坦度调节方法,其特征在于,所述同轴传输部由一根同轴导体构成,用于接入待测的传输电路;所述正向容值调节部、正向电感调节部和正向电阻调节部均用于调节正向阻抗匹配;所述反向容值调节部、反向电感调节部和反向电阻调节部均用于调节反向阻抗匹配。

5.一种耦合器平坦度调节装置,其特征在于,包括:

6.如权利要求5所述的耦合器平坦度调节装置,其特征在于,所述耦合器均衡电路模型的构成过程为:

7.如...

【专利技术属性】
技术研发人员:李涛陈磊胡玉麒
申请(专利权)人:济南东汉半导体设备有限公司
类型:发明
国别省市:

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