本技术实施例提供了一种走带机构及浸嵌预锂装置，涉及极片预锂技术领域。浸嵌预锂装置包括走带机构，走带机构包括机架、安装组件、第一绕辊、第二绕辊及驱动组件。第一绕辊与第二绕辊平行间隔且错位设置，第一绕辊与第二绕辊之间形成供带材穿过的走带空腔。驱动组件包括设置于机架的第一驱动件及第二驱动件，第一驱动件与第一安装板连接，第二驱动件与第二安装板连接。第一绕辊与第二绕辊均能够沿第一方向运动，当箱体内的锂溶液消耗减少时，第一绕辊或第二绕辊均能沿第一方向适应性运动一定的距离，保证第一绕辊与第二绕辊均能够浸没于锂溶液内，能够适用箱体内不同容量的锂溶液，提高了适应能力。
【技术实现步骤摘要】
本技术涉及极片预锂，具体而言，涉及一种走带机构及浸嵌预锂装置。
技术介绍
1、目前，为了获得更高的锂离子电池的能量密度,可以借助补锂技术将首次充放电过程中不可逆的锂消耗预先补回来，整个过程称为极片预锂。现在，进行化学式极片预锂的方式一般为浸嵌预锂，负极极片通过绕辊蛇形走带形式浸没在箱体锂溶液中，经过一定时间的浸泡，完成负极极片预锂。
2、经专利技术人研究发现，现有的一些走带机构在进行预锂时，要求箱体内的锂液面高度要能够浸没上、下两排绕辊，行走在该绕辊上的极片预锂效果方可最佳，但这种结构造成每次设备运行时，加注到箱体内的锂液量固定且锂溶液量加注量最大，当箱体内的锂溶液的量不能处于最大时，便不完全浸没上下两排绕辊，适应能力较差。
技术实现思路
1、本技术的目的在于提供一种走带机构，其能够在箱体内的锂溶液不能处于最大时也能够保证锂溶液能够浸没上下两排绕辊，提高了适应能力。
2、本技术的实施例是这样实现的：
3、第一方面，本技术提供一种走带机构，包括：
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p>4、机架；...
【技术保护点】
1.一种走带机构，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的走带机构，其特征在于：
3.根据权利要求2所述的走带机构，其特征在于：
4.根据权利要求2所述的走带机构，其特征在于：
5.根据权利要求1所述的走带机构，其特征在于：
6.根据权利要求1所述的走带机构，其特征在于：
7.根据权利要求1所述的走带机构，其特征在于：
8.一种浸嵌预锂装置，其特征在于，包括箱体及权利要求1-7任一项所述的走带机构，所述机架部分伸入所述箱体，所述第一安装板、所述第二安装板、所述第一绕辊及所述第二绕辊均设置于所述箱体内，...
【技术特征摘要】
1.一种走带机构，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的走带机构，其特征在于：
3.根据权利要求2所述的走带机构，其特征在于：
4.根据权利要求2所述的走带机构，其特征在于：
5.根据权利要求1所述的走带机构，其特征在于：
6.根据权利要求1所述的走带机构，其特征在于：
7.根据权利要求1所述的...
【专利技术属性】
技术研发人员：阳如坤，吴庆利，吴学科，
申请(专利权)人：深圳宇锂能源科技有限公司，
类型：新型
国别省市：
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