一种高纯钛中微量金属杂质元素测定的前处理方法技术

技术编号:43719161 阅读:34 留言:0更新日期:2024-12-20 12:48
本发明专利技术公布了一种高纯钛中微量金属元素测定的前处理方法,该方法是利用钛在70℃以上条件下与浓硝酸反应生成钛酸,然后加入氯化钡溶液与钛酸反应生成钛酸钡沉淀,再经过定容、离心得到去除钛元素的前处理溶液,具体方法包括以下步骤:(1)高纯钛裁剪;(2)高纯钛溶解;(3)钛酸沉淀;(4)离心。本发明专利技术方法将钛氧化生成钛酸,然后通过钡盐与之反应生成钛酸钡沉淀,使检测溶液去除钛元素,从而消除钛元素在ICP‑MS分析中带来的干扰。适用于高纯钛中微量杂质金属元素的测定。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及高纯钛,进一步来说,涉及高纯钛中微量金属杂质元素的测定方法,尤其涉及高纯钛中微量金属杂质元素测定的前处理方法


技术介绍

1、高纯钛具有密度低、熔点高、耐腐蚀性强、强度低和可塑性强等特点,其广泛运用于电子信息科技、生物医用科技、航空航天科技和船舶运输科技等尖端领域,成为重要的国家战略性资源之一。

2、高纯钛具有银白色的金属光泽,除了钛常见的性质(抗腐蚀性、密度较低、熔化温度高、无磁性)以外,还有塑性好(断面收缩率可以达到70%~80%,延伸率可以达到50%~60%)的特点。在超大规模集成电路的应用上,钛被广泛用于它的电极材料和配线材料的制作等。制造这些靶材一般可以采用溅射法制备,而溅射法对用的钛靶材对纯度要求很高,使用磁控溅射可以使钛基薄膜表面更加光滑,所以磁控溅射法是用得比较多的方法。近年来,不同的溅射设备使用的溅射钛靶材采用不同纯度的钛,比如说,对于4兆位的超大规模集成电路就会用到99.995%~99.999%纯度的钛。对于16兆位的超大规模集成电路对钛的要求要达到99.9999以上。

3、测定微量杂质金属元素的方本文档来自技高网...

【技术保护点】

1. 一种高纯钛中微量金属元素测定的前处理方法,其特征在于该方法是利用钛在70℃以上条件下与浓硝酸反应生成钛酸,然后加入氯化钡溶液与钛酸反应生成钛酸钡沉淀、定容、离心得到去除钛元素的前处理溶液,具体方法包括以下步骤:

2.如权利要求1所述的方法,其特征在于从第(2)步高纯钛溶解开始,同时做空白样。

【技术特征摘要】

1. 一种高纯钛中微量金属元素测定的前处理方法,其特征在于该方法是利用钛在70℃以上条件下与浓硝酸反应生成钛酸,然后加入氯化钡溶液与钛酸反应生成钛酸钡沉淀、...

【专利技术属性】
技术研发人员:张建刚苏向东向东舒骁骥高山
申请(专利权)人:贵州理工学院
类型:发明
国别省市:

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