【技术实现步骤摘要】
本技术涉及集成电路制造,尤其涉及一种集成电路制造的电镀槽结构。
技术介绍
1、电镀槽是电镀设备中最基础的设备,主要功能是装置溶液。镀槽的使用方式有按手工操作的工艺流程生产线直线排列,也有因地制宜的根据现场空间分开镀种排列,如果是机械自动生产线,则基本上是按工艺流程排列的。在电镀过程中,为提高电镀质量,避免溶液出现浓度极化,防止镀件表面出现针孔、麻点等不良现象,需要对电镀溶液持续进行搅拌。
2、然而,电镀液使用时需要进行搅拌以保证浓度均一,进而保证电镀的质量,但是目前的搅拌混合组件结构复杂也难以保证混合的均匀度,如公开号为cn26736191u的一种用于集成电路制造的电镀槽结构。
3、针对于此,本申请提出一种集成电路制造的电镀槽结构。
技术实现思路
1、针对现有技术中所存在的不足,本技术提供了一种集成电路制造的电镀槽结构。
2、本技术的实施例提供了一种集成电路制造的电镀槽结构,包括:
3、用于盛装电镀液的电镀箱;
4、能够实现电镀箱
...【技术保护点】
1.一种集成电路制造的电镀槽结构,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的一种集成电路制造的电镀槽结构,其特征在于,其中:
3.根据权利要求1所述的一种集成电路制造的电镀槽结构,其特征在于,其中:
4.根据权利要求3所述的一种集成电路制造的电镀槽结构,其特征在于,其中:
5.根据权利要求1所述的一种集成电路制造的电镀槽结构,其特征在于,其中:
6.根据权利要求1所述的一种集成电路制造的电镀槽结构,其特征在于,其中:
【技术特征摘要】
1.一种集成电路制造的电镀槽结构,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的一种集成电路制造的电镀槽结构,其特征在于,其中:
3.根据权利要求1所述的一种集成电路制造的电镀槽结构,其特征在于,其中:
4....
【专利技术属性】
技术研发人员:王建,
申请(专利权)人:重庆安美科技有限公司,
类型:新型
国别省市:
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