【技术实现步骤摘要】
本申请属于半导体基板清洗，更具体地说，是涉及一种毛刷预清洗装置及基板清洗设备。
技术介绍
1、在芯片的制造工序中，基板表面的清洁度对芯片的性能有很大的影响，若基板表面被污染，或者基板的表面的清洁度达不到预设要求，则会给芯片品质带来不可忽视的影响。因此，在芯片的制作过程中，对基本表面的清洗十分重要。
2、目前，在对基板进行清洗时，多采用非金属毛刷对基板进行清洗，在清洗过程中毛刷本身也会被基板污染，且在多次使用后，由于毛刷自身洁净度下降，也会对基板造成二次污染。为了避免因为毛刷自身洁净度下降对基板造成的二次污染情况，在毛刷使用一段时间后，需要更换新毛刷，且新更换的毛刷自身洁净度也很难直接用于基板清洗。
3、目前，在对完成一个基板清洗后以及在对下一个基板清洗前，需要采用次品基板摩擦多次使用后的毛刷或者新毛刷，同时通过大量清水对毛刷进行预清洗，如此，所产生的问题是：上述清洗方式致使毛刷的预清洁时间比较长，从而导致的了基板的清洗时间耗费时间长，且上述清洗方式只能冲洗毛刷表面轻度附着的灰尘，清洗效果较差，不能满足对毛刷的清洗
【技术保护点】
1.毛刷预清洗装置，用于在目标毛刷处于非工作时间时预清洗所述目标毛刷，其特征在于，包括：
2.如权利要求1所述的毛刷预清洗装置，其特征在于，所述第二清洁件上设有第二清洁面，所述第二清洁面与所述第一清洁面抵接，所述第二清洁面的长度尺寸大于所述目标毛刷的直径尺寸。
3.如权利要求2所述的毛刷预清洗装置，其特征在于，
4.如权利要求3所述的毛刷预清洗装置，其特征在于，还包括：
5.如权利要求1或4所述的毛刷预清洗装置，其特征在于，
6.如权利要求5所述的毛刷预清洗装置，其特征在于，还包括：
7.如权利要...
【技术特征摘要】
1.毛刷预清洗装置，用于在目标毛刷处于非工作时间时预清洗所述目标毛刷，其特征在于，包括：
2.如权利要求1所述的毛刷预清洗装置，其特征在于，所述第二清洁件上设有第二清洁面，所述第二清洁面与所述第一清洁面抵接，所述第二清洁面的长度尺寸大于所述目标毛刷的直径尺寸。
3.如权利要求2所述的毛刷预清洗装置，其特征在于，
4.如权利要求3所述的毛刷预清洗装置，其特征在于，还包括：
5.如权利要求1或4所述的毛刷预清洗装置，其特征在于...
【专利技术属性】
技术研发人员：赵旭，郝岩松，郭生洋，
申请(专利权)人：沈阳芯源微电子设备股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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