一种提高高阻隔材料阻隔性能的真空镀膜设备制造技术

技术编号:43660740 阅读:23 留言:0更新日期:2024-12-13 12:51
本技术提供了一种提高高阻隔材料阻隔性能的真空镀膜设备,属于机械技术领域。它解决了现有镀膜材料的柱状排列对材料阻隔性能影响无法得到解决的问题。本提高高阻隔材料阻隔性能的真空镀膜设备,包括放卷部和收卷部,放卷部与收卷部之间设有镀膜辊,镀膜辊上设置有镀膜源和离子源,放卷部与镀膜辊之间以及收卷部与镀膜辊之间均设有过辊。本技术具有提高材料阻隔性能的优点。

【技术实现步骤摘要】

本技术属于机械,涉及一种提高高阻隔材料阻隔性能的真空镀膜设备


技术介绍

1、随着软包装市场对水、氧、紫外线阻隔的要求越来越高,现针对镀膜材料的柱状排列对材料阻隔性能影响无法得到解决。


技术实现思路

1、本技术的目的是针对现有技术中存在的上述问题,提供了一种利用离子轰击镀层材料提高材料阻隔性能的真空镀膜机。

2、本技术的目的可通过下列技术方案来实现:一种提高高阻隔材料阻隔性能的真空镀膜设备,其特征在于,包括放卷部和收卷部,所述的放卷部与收卷部之间设有镀膜辊,所述的镀膜辊上设置有镀膜源和离子源,所述的放卷部与镀膜辊之间以及收卷部与镀膜辊之间均设有过辊。

3、在上述的一种提高高阻隔材料阻隔性能的真空镀膜设备,其特征在于,所述的放卷部上具有基膜,且所述过辊和镀膜辊供基膜经过。

4、与现有技术相比,本提高高阻隔材料阻隔性能的真空镀膜设备具有提高材料阻隔性能的优点。

【技术保护点】

1.一种提高高阻隔材料阻隔性能的真空镀膜设备,其特征在于,包括放卷部(1)和收卷部(2),所述的放卷部(1)与收卷部(2)之间设有镀膜辊(3),所述的镀膜辊(3)上设置有镀膜源(4)和离子源(5),所述的放卷部(1)与镀膜辊(3)之间以及收卷部(2)与镀膜辊(3)之间均设有过辊(6)。

2.根据权利要求1所述的一种提高高阻隔材料阻隔性能的真空镀膜设备,其特征在于,所述的放卷部(1)上具有基膜(7),且所述过辊(6)和镀膜辊(3)供基膜(7)经过。

【技术特征摘要】

1.一种提高高阻隔材料阻隔性能的真空镀膜设备,其特征在于,包括放卷部(1)和收卷部(2),所述的放卷部(1)与收卷部(2)之间设有镀膜辊(3),所述的镀膜辊(3)上设置有镀膜源(4)和离子源(5),所述的放卷部(1)与镀膜辊(3)之...

【专利技术属性】
技术研发人员:林正亮贺永云
申请(专利权)人:温岭市倍福机械设备制造有限公司
类型:新型
国别省市:

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