一种溅射均匀的真空镀膜机制造技术

技术编号：43656233 阅读：21 留言：0更新日期：2024-12-13 12:48

本技术公开了一种溅射均匀的真空镀膜机，涉及真空镀膜技术领域，包括外框和均匀镀膜机构，其特征在于；所述外框的内部设置有均匀镀膜机构，本技术通过均匀镀膜机构的设置，达到了可确保将材料均匀溅射在加工物表面的效果，首先将加工物挂置到挂持柱上，随后在进行镀膜工作时，利用驱动电机带动转轴进行转动，转动的同时可用步进气缸循环控制连接柱的升降，同时利用无刷电机驱动嵌套壳带动挂持柱和加工物进行旋转，该功能不仅可以对所需加工物进行旋转，同时通过步进气缸循环控制连接柱的升降，可以进一步使镀膜材料均匀镀膜在加工物外表上，同时在驱动电机如上转动的同时，可利用无刷电机如上驱动加工物反向旋转，以进一步提高镀膜的均匀性。

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【技术实现步骤摘要】

本技术涉及真空镀膜，具体是一种溅射均匀的真空镀膜机。

技术介绍

1、真空镀膜机是一种用于在材料表面形成薄膜的设备。这种薄膜通常是通过在真空环境中沉积材料而制成的。真空镀膜技术在多种应用中都很常见，包括电子器件制造、光学涂层、太阳能电池、镜片、包装材料等，现有的真空镀膜机在进行镀膜工作时无法均匀的将覆膜覆盖在加工物上，因此需要使用到一种溅射均匀的真空镀膜机。

2、现有的真空镀膜机在进行镀膜工作时，无法充分的将材料溅射在加工物外表，进一步无法均匀的对加工物形成薄膜覆盖，因此进一步会影响到加工物的防护性能，且因真空镀膜机的特殊性，其在进行镀膜工作时必须保持加工仓内保持真空，而现有的真空镀膜机不具备检测其内部真空度的效果，因此需要组抽改进。

技术实现思路

1、本技术的目的在于提供一种溅射均匀的真空镀膜机，其特征在于：包括外框和均匀镀膜机构，其特征在于；所述外框的内部设置有均匀镀膜机构，所述外框内部、顶部和正面均设置有密封机构；

2、所述均匀镀膜机构包括固定在外框内部的驱动电...

【技术保护点】

1.一种溅射均匀的真空镀膜机，其特征在于：包括外框(1)和均匀镀膜机构(2)，其特征在于；所述外框(1)的内部设置有均匀镀膜机构(2)，所述外框(1)内部、顶部和正面均设置有密封机构(3)；

2.根据权利要求1所述的一种溅射均匀的真空镀膜机，其特征在于：所述转轴(202)的顶部外壁固定连接有传动杆(203)以及固定连接在传动杆(203)顶部的多个步进气缸(204)。

3.根据权利要求2所述的一种溅射均匀的真空镀膜机，其特征在于：所述步进气缸(204)的另一端顶部固定连接有底盘(205)以及固定连接在底盘(205)顶部的驱动柱(206)。