【技术实现步骤摘要】
本技术涉及电子元器件加工的,尤其涉及一种电子元器件清洗装置。
技术介绍
1、电子元器件清洗是电子制造过程中的重要环节,可以去除表面污染物,确保元器件质量和可靠性。清洗方式包括机械清洗、溶剂清洗、超声波清洗和酸洗等。酸洗是一种常用的清洗方法,主要用于去除金属表面的氧化皮和其它污染物,以及改善金属表面的粗糙度和增加表面活性,有利于后续处理工艺和保证元器件性能。
2、目前,电子元器件酸洗时,通常将大量电子元器件倒入到酸洗池中进行静态清洗,造成元器件堆积在一起,由于形状和尺寸的限制,会导致堆积在内部的电子元器件不能与酸洗液进行充分接触,不能有效去除电子元件表面的氧化皮等其它污染物,从而影响了电子元器件的清洗质量。
技术实现思路
1、本技术旨在至少在一定程度上解决相关技术中的技术问题之一。
2、为此,本技术的目的在于提出一种电子元器件清洗装置,能够使堆积的电子元器件与酸洗液充分接触,从而提高电子元器件的酸洗效果。
3、为达到上述目的,本技术提出了一种电子元器件清洗
...【技术保护点】
1.一种电子元器件清洗装置,其特征在于,包括酸洗箱、翻转搅动组件和气泡发生组件,其中,
2.根据权利要求1所述的电子元器件清洗装置,其特征在于,所述翻动机构包括支撑架、底板、顶板和限位柱,其中,
3.根据权利要求2所述的电子元器件清洗装置,其特征在于,所述气泡发生组件包括第二齿轮、空气输送机构、连接管和气泡输出机构,其中,
4.根据权利要求3所述的电子元器件清洗装置,其特征在于,所述空气输送机构包括输送箱、往复丝杆、活塞和单向阀,其中,
5.根据权利要求4所述的电子元器件清洗装置,其特征在于,所述气泡输出机构包括挡气阀块
...【技术特征摘要】
1.一种电子元器件清洗装置,其特征在于,包括酸洗箱、翻转搅动组件和气泡发生组件,其中,
2.根据权利要求1所述的电子元器件清洗装置,其特征在于,所述翻动机构包括支撑架、底板、顶板和限位柱,其中,
3.根据权利要求2所述的电子元器件清洗装置,其特征在于,所述气泡发生组件包括...
【专利技术属性】
技术研发人员:房璐璐,张宇,吴显普,
申请(专利权)人:东莞市臻荣电子有限公司,
类型:新型
国别省市:
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。