一种基于DBC互连的功率半导体封装结构的封装方法技术

技术编号:43593233 阅读:27 留言:0更新日期:2024-12-11 14:44
本发明专利技术公开了一种基于DBC互连的功率半导体封装结构的封装方法,本发明专利技术采用DBC互连的方式,相较于传统的金属线键合,通过大尺寸铜柱连接上下DBC板,该方式有利于减小杂散电感,同时铜柱还能够增强散热效果;本发明专利技术提供的相变材料,在碳纤维表面原位生成纳米氮化硅,通过原位合成,纳米氮化硅可以在碳纤维表面形成均匀的涂层,避免了共混过程中出现的颗粒聚集问题,同时采用原位生成的方式,能够在微观结构上形成有效的热传导路径,降低热界面热阻,增加热传导效率,从而提升相变材料的导热性能;随后采用硬脂酸对碳纤维负载纳米氮化硼材料进行处理,提高了碳纤维负载纳米氮化硼材料在石蜡中的分散性能,进一步提高了热传导的效率。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及电子器件封装,具体涉及一种基于dbc互连的功率半导体封装结构的封装方法。


技术介绍

1、目前已有的大部分商用氮化硅(sic)器件仍采用传统的硅(si)器件的封装方式,这种方式已经在电子器件行业中得到了广泛应用并且相对成熟。具体流程通常包括几步:先通过焊锡工艺将sic芯片的背部焊接到基板上,这个基板常常是金属材料,起到散热和支撑的作用;随后利用金属键合线将芯片的正面电极引出,从而实现电气连接;为了保护芯片和连接结构,以及提高器件的可靠性,通常会进行塑封或灌胶处理。传统封装技术因其成熟、成本低廉,并且能够兼容和替代现有的si基器件,因而得到了广泛的接受。

2、然而,采用传统封装结构的sic器件也面临着一些显著的挑战,尤其是在高频和快速开关应用中。由于这些封装方式的特点,导致器件的杂散电感参数往往较大。杂散电感是影响开关性能的重要因子,尤其在sic器件快速开关时,会导致严重的电压过冲现象,这种电压过冲不仅会损坏器件本身,还会对电路的稳定性构成潜在威胁;此外,较大的杂散电感会引起开关损耗的增加,实现高效率操作变得更加困难,同时也会提高电磁本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种基于DBC互连的功率半导体封装结构的封装方法,其特征在于,包括如下步骤:

2.根据权利要求1所述的封装方法,其特征在于,步骤S01中,加热搅拌处理的温度为60-80℃,时间为2-5h。

3.根据权利要求1所述的封装方法,其特征在于,步骤S02中,预处理碳纤维和硼源溶液的用量比为1g:5-10mL。

4.根据权利要求1所述的封装方法,其特征在于,步骤S02中,硼源溶液的质量分数为1-2%。

5.根据权利要求1所述的封装方法,其特征在于,步骤S02中,硼源选自氧化硼或硼酸盐。

6.根据权利要求1所述的封装方法,其特征在于,步...

【技术特征摘要】

1.一种基于dbc互连的功率半导体封装结构的封装方法,其特征在于,包括如下步骤:

2.根据权利要求1所述的封装方法,其特征在于,步骤s01中,加热搅拌处理的温度为60-80℃,时间为2-5h。

3.根据权利要求1所述的封装方法,其特征在于,步骤s02中,预处理碳纤维和硼源溶液的用量比为1g:5-10ml。

4.根据权利要求1所述的封装方法,其特征在于,步骤s02中,硼源溶液的质量分数为1-2%。

5.根据权利要求1所述的封装方法,其特征在...

【专利技术属性】
技术研发人员:刘俊峰葛崇祜陈建良
申请(专利权)人:芯立汇科技无锡有限公司
类型:发明
国别省市:

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