【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及电子器件封装,具体涉及一种基于dbc互连的功率半导体封装结构的封装方法。
技术介绍
1、目前已有的大部分商用氮化硅(sic)器件仍采用传统的硅(si)器件的封装方式,这种方式已经在电子器件行业中得到了广泛应用并且相对成熟。具体流程通常包括几步:先通过焊锡工艺将sic芯片的背部焊接到基板上,这个基板常常是金属材料,起到散热和支撑的作用;随后利用金属键合线将芯片的正面电极引出,从而实现电气连接;为了保护芯片和连接结构,以及提高器件的可靠性,通常会进行塑封或灌胶处理。传统封装技术因其成熟、成本低廉,并且能够兼容和替代现有的si基器件,因而得到了广泛的接受。
2、然而,采用传统封装结构的sic器件也面临着一些显著的挑战,尤其是在高频和快速开关应用中。由于这些封装方式的特点,导致器件的杂散电感参数往往较大。杂散电感是影响开关性能的重要因子,尤其在sic器件快速开关时,会导致严重的电压过冲现象,这种电压过冲不仅会损坏器件本身,还会对电路的稳定性构成潜在威胁;此外,较大的杂散电感会引起开关损耗的增加,实现高效率操作变得更加困
...【技术保护点】
1.一种基于DBC互连的功率半导体封装结构的封装方法,其特征在于,包括如下步骤:
2.根据权利要求1所述的封装方法,其特征在于,步骤S01中,加热搅拌处理的温度为60-80℃,时间为2-5h。
3.根据权利要求1所述的封装方法,其特征在于,步骤S02中,预处理碳纤维和硼源溶液的用量比为1g:5-10mL。
4.根据权利要求1所述的封装方法,其特征在于,步骤S02中,硼源溶液的质量分数为1-2%。
5.根据权利要求1所述的封装方法,其特征在于,步骤S02中,硼源选自氧化硼或硼酸盐。
6.根据权利要求1所述的封装
...【技术特征摘要】
1.一种基于dbc互连的功率半导体封装结构的封装方法,其特征在于,包括如下步骤:
2.根据权利要求1所述的封装方法,其特征在于,步骤s01中,加热搅拌处理的温度为60-80℃,时间为2-5h。
3.根据权利要求1所述的封装方法,其特征在于,步骤s02中,预处理碳纤维和硼源溶液的用量比为1g:5-10ml。
4.根据权利要求1所述的封装方法,其特征在于,步骤s02中,硼源溶液的质量分数为1-2%。
5.根据权利要求1所述的封装方法,其特征在...
【专利技术属性】
技术研发人员:刘俊峰,葛崇祜,陈建良,
申请(专利权)人:芯立汇科技无锡有限公司,
类型:发明
国别省市:
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