【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及靶材加工设备,具体是一种超硬平面靶材的切割设备。
技术介绍
1、靶材,也称为溅射靶材,是一种在物理气相沉积(pvd)技术中使用的关键材料,它在半导体、平板显示、太阳能电池、记录媒体等领域中有着广泛的应用。靶材通常由高纯度的金属、合金或陶瓷化合物制成,其纯度、尺寸和微观结构对薄膜的性能有着决定性的影响。靶材的种类繁多,可以根据形状、化学成分和应用领域进行分类。常见的靶材包括铜、铝、钼和i to(掺锡氧化铟)等。它们可以是平面的,也可以是旋转的,以提高溅射过程中的效率和均匀性。靶材的制备过程包括原料选择、熔炼混合、热处理、冷变形与退火、机加工和质量检验等步骤。
2、靶材在加工过程中需要对其进行切割,在对超硬平面靶材切割过程中需要添加冷却液,现有技术一种超硬平面靶材的切割设备(专利申请号:201820425811.x),包括机架、切割装置和装夹平台,切割装置和装夹平台分别固定于机架的上部,该切割装置设置有替换使用的钼线、驱动轮和若干引导轮,钼线顺次、循环且紧张缠绕于驱动轮和引导轮,其中择选的两个引导轮之间形成一切割部
...【技术保护点】
1.一种超硬平面靶材的切割设备,包括:设备主体(10),所述设备主体(10)内部设置有线切割装置;
2.根据权利要求1所述的一种超硬平面靶材的切割设备,其特征在于,所述收渣槽(307)底部设置有排水阀(332)。
3.根据权利要求1所述的一种超硬平面靶材的切割设备,其特征在于,限位机构包括固定安装在箱体(333)内部的第二安装环(315),所述过滤网(306)底部设置有第一安装环(310),所述第一安装环(310)与第二安装环(315)同心设置,所述第一安装环(310)设置在第二安装环(315)内部,所述第二安装环(315)外侧对称设置有第一限
...【技术特征摘要】
1.一种超硬平面靶材的切割设备,包括:设备主体(10),所述设备主体(10)内部设置有线切割装置;
2.根据权利要求1所述的一种超硬平面靶材的切割设备,其特征在于,所述收渣槽(307)底部设置有排水阀(332)。
3.根据权利要求1所述的一种超硬平面靶材的切割设备,其特征在于,限位机构包括固定安装在箱体(333)内部的第二安装环(315),所述过滤网(306)底部设置有第一安装环(310),所述第一安装环(310)与第二安装环(315)同心设置,所述第一安装环(310)设置在第二安装环(315)内部,所述第二安装环(315)外侧对称设置有第一限位杆(316),所述第一限位杆(316)沿着第一安装环(310)径向弹性设置在第一安装环(310)中,且第一限位杆(316)一端外漏设置;所述第二安装环(315)内壁上设置有若干条状限位槽(327),所述第二安装环(315)内壁上还设置有导向环形槽(329),所述导向环形槽(329)设置在条状限位槽(327)的上方设置。
4.根据权利要求3所述的一种超硬平面靶材的切割设备,其特征在于,所述条状限位槽(327)不少于两个设置。
5.根据权利要求2所述的一种超硬平面靶材的切割设备,其特征在于,所述积液槽(301)顶部开口位置设置有初级过滤网。
6.根据权利要求3所述的一种超硬平面靶材的切割设备,其特征在于,所述第二安装环(315)内侧还设置有限位台阶(328),所述限位台阶(328)下端抵触在第一安装环(310)上的向内收缩的...
【专利技术属性】
技术研发人员:程平,
申请(专利权)人:安徽中晶新材料有限公司,
类型:发明
国别省市:
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