硅片超声波清洗装置及其制造方法、应用制造方法及图纸

本发明专利技术揭示了一种硅片超声波清洗装置，包括清洗槽、机箱、动力组件、传动机构、托架、硅片夹具；清洗槽设置于机箱顶部，托架与清洗槽固定连接，以支撑硅片夹具悬设于清洗槽内；动力组件设置于机箱内部并通过传动机构与硅片夹具动力连接，以驱动硅片夹具旋动；还包括超声机构，以在清洗槽内产生超声波。本发明专利技术通过在清洗槽的清洗液内产生超声波，利用超声波的高频振动，产生超声空化现象，对硅片实施高效清洗，并通过驱动装载有硅片的硅片夹具旋动，以及仿真分析对超声换能器进行选型、对硅片夹具的设置区域进行优化，有助于进一步提高对硅片的清洗效果并缩短清洗时间。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及太阳能光伏板制造，具体涉及一种硅片超声波清洗装置及其制造方法、应用。

技术介绍

1、近年来，随着传统能源所引发的问题日益凸显，全球正逐渐转向新能源领域，寻求更为清洁、可持续的能源解决方案。太阳能行业的发展尤为引人注目，以其清洁、可再生的特性成为未来能源发展的重要方向。而太阳能行业的发展离不开半导体产业的支持，尤其是硅晶圆作为其关键材料，其制成的硅片的质量和良品率直接影响到太阳能光伏板的效率和寿命。

2、硅片的质量和良品率不但与关键制备工序-制绒相关，而且还与硅片制绒后的洁净度密切相关。一旦硅片表面上出现了污垢或纤维类的污染，在制造为太阳能光伏板工作时就很容易引起短路。所以针对硅片制绒工序后的清洁工作是非常重要的。

3、针对硅片制绒工序后清洁的传统清洗方法包括：手工刷洗、蒸汽清洗和酸(碱)清洗等。这些方法存在许多缺点，如：清洗效率较低、污染较大、可能对人体产生危害等，并且不容易达到清洗要求。

4、而超声波清洗通过高频声波在液体中产生机械振动和空化效应，可以使得硅片表面的污染物被迅速剥离，达到高效清洗的目的。同本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种硅片超声波清洗装置，其特征在于，包括清洗槽、机箱、动力组件、传动机构、托架、硅片夹具；

2.根据权利要求1所述的一种硅片超声波清洗装置，其特征在于，所述超声机构包括超声发射器和设置于所述清洗槽外周的若干超声换能器。

3.根据权利要求2所述的一种硅片超声波清洗装置，其特征在于，所述超声换能器的固有频率为43KHz，所述超声换能器的振型为纵向拉伸。

4.根据权利要求1所述的一种硅片超声波清洗装置，其特征在于，所述机箱内设有水泵，以向所述清洗槽内输送清洗液。

5.根据权利要求1所述的一种硅片超声波清洗装置，其特征在于，所述清洗槽的底部设有...

【技术特征摘要】

1.一种硅片超声波清洗装置，其特征在于，包括清洗槽、机箱、动力组件、传动机构、托架、硅片夹具；

2.根据权利要求1所述的一种硅片超声波清洗装置，其特征在于，所述超声机构包括超声发射器和设置于所述清洗槽外周的若干超声换能器。

3.根据权利要求2所述的一种硅片超声波清洗装置，其特征在于，所述超声换能器的固有频率为43khz，所述超声换能器的振型为纵向拉伸。

4.根据权利要求1所述的一种硅片超声波清洗装置，其特征在于，所述机箱内设有水泵，以向所述清洗槽内输送清洗液。

5.根据权利要求1所述的一种硅片超声波清洗装置，其特征在于，所述清洗槽的底部设有加热组件，以对清洗槽内的清洗液加热。

6.根据权利要求1所述的一种硅片超声波清洗装置，其特征在于，所述动...

【专利技术属性】
技术研发人员：郭星吟，苗情，王曦唱，刘妍，袁苏昊，王启航，
申请(专利权)人：苏州科技大学，
类型：发明
国别省市：