本发明专利技术公开了一种双折射晶体及其制备方法，属于光学材料技术领域。双折射晶体的化学式为SbTeO<subgt;3</subgt;F；双折射晶体的空间群为P2<subgt;1</subgt;2<subgt;1</subgt;2<subgt;1</subgt;；晶胞参数为α＝90°，β＝90°，γ＝90°，Z＝4。制备时，将含锑化合物和含碲化合物溶于混合溶液中，再过滤，滤液于室温下静置4～5天；然后收集析出的晶体，并清洗，即得。本发明专利技术中的双折射晶体制备工艺简单，重复性好，在降低制备成本的同时还能提升产率；所得双折射晶体具有较大的双折射率，并且在空气和水中都能保持稳定，具有良好的物理化学稳定性。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于光学材料，具体涉及一种双折射晶体及其制备方法。
技术介绍
1、当一束光照射到晶体表面上时，会产生两束折射光，这种现象叫做双折射，能够产生双折射现象的晶体叫做双折射晶体。晶体的双折射性质是光电功能材料晶体的重要光学性能参数，利用双折射晶体的特性可以对光的偏振态进行调制和检测，得到线偏振光，实现对光束的位移等。因此双折射晶体材料被广泛应用于制造光隔离器、光学调制器、偏振分束镜和偏振器偏棱镜等元件的关键部位。
2、目前应用于商业化的双折射晶体主要有tio2(δn＝0.256@546nm)、caco3(δn＝0.172@532nm)、yvo4(δn＝0.204@53nm)、linbo3(δn＝0.074@546nm)和α-bab2o4(δn＝0.122@546nm)。其中天然双折射晶体tio2和caco3因其杂质和缺陷等质量问题，其应用受到了限制。而人工双折射晶体caco3、yvo4和linbo3的合成所需价格相对高昂，且部分双折射晶体存在透光率低和双折射小等问题。因此寻找性能优良的双折射晶体材料具有重要意义。
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【技术保护点】
1.一种双折射晶体，其特征在于：所述双折射晶体的化学式为SbTeO3F；所述双折射晶体的空间群为P212121；晶胞参数为α＝90°，β＝90°，γ＝90°，Z＝4。
2.权利要求1所述的双折射晶体的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
3.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于：所述含锑化合物为SbF3，所述含碲化合物为TeO2。
4.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于：所述SbF3和TeO2的摩尔比为4:1。
5.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于：所述混合物与所述混合溶液的料液比为1g：3～5mL。</p>6.根据
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【技术特征摘要】
1.一种双折射晶体，其特征在于：所述双折射晶体的化学式为sbteo3f；所述双折射晶体的空间群为p212121；晶胞参数为α＝90°，β＝90°，γ＝90°，z＝4。
2.权利要求1所述的双折射晶体的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
3.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于：所述含锑化合物为sbf3，所述含碲化合物为teo2。
4.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于：所述sbf3和teo2的摩尔比为4:1。
5.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于：...
【专利技术属性】
技术研发人员：董雪华，周晓燕，
申请(专利权)人：四川师范大学，
类型：发明
国别省市：
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