【技术实现步骤摘要】
本技术涉及薄膜沉积制备,尤其涉及一种汽化系统以及薄膜沉积设备。
技术介绍
1、在光伏行业内,在对硅片进行薄膜沉积时,需将前驱体通入反应腔室内沉积,以实现对应膜层的沉积。大多数前驱体在常温下是液体,当进行工艺反应时,就需要将前驱体汽化通入到反应腔室内。
2、目前前驱体汽化通入反应腔室的常用方法有:烘焙汽化方法和鼓泡汽化方法。采用烘焙汽化方法时,需在整个汽化回路中进行加热,该方法耗费能源,同时存在回路中的电器元件和结构件长期经受高温容易损坏的问题。而采用鼓泡汽化方法时,需要往前驱体中通入惰性气体,经由惰性气体携带前驱体进入反应腔室内,由于前驱体混杂着惰性气体,存在难以准确计量通入反应腔内的前驱体的问题。
3、因此,亟需提供一种汽化系统以及薄膜沉积设备,以解决上述技术问题。
技术实现思路
1、本技术的一个目的在于提供一种汽化系统,能够提高对前驱体流量检测的准确性;同时避免出现烘焙汽化方法对控制阀、管路等结构造成的高温损坏的风险,提高了汽化系统的使用寿命。
2、
...【技术保护点】
1.汽化系统,用于为反应腔室(200)供给反应气体,其特征在于,所述汽化系统包括:
2.根据权利要求1所述的汽化系统,其特征在于,所述第二管路(22)上设有第二流量检测件(23),所述第二流量检测件(23)用于检测所述第二管路(22)中所述载气的流量。
3.根据权利要求1所述的汽化系统,其特征在于,所述储源件(10)通过第三管路(52)连通有储气件(51),所述储气件(51)被配置为向所述储源件(10)输送惰性气体,以推动所述前驱体输出至所述第一管路(41)。
4.根据权利要求3所述的汽化系统,其特征在于,所述储源件(10)设有输入
...【技术特征摘要】
1.汽化系统,用于为反应腔室(200)供给反应气体,其特征在于,所述汽化系统包括:
2.根据权利要求1所述的汽化系统,其特征在于,所述第二管路(22)上设有第二流量检测件(23),所述第二流量检测件(23)用于检测所述第二管路(22)中所述载气的流量。
3.根据权利要求1所述的汽化系统,其特征在于,所述储源件(10)通过第三管路(52)连通有储气件(51),所述储气件(51)被配置为向所述储源件(10)输送惰性气体,以推动所述前驱体输出至所述第一管路(41)。
4.根据权利要求3所述的汽化系统,其特征在于,所述储源件(10)设有输入管(11)和输出管(12),所述输入管(11)连通于所述第三管路(52),所述输出管(12)连通于所述第一管路(41),其中,所述输入管(11)远离所述储源件(10)的所述前驱体,所述输出管(12)伸入所述储源件(10)的所述前驱体。
5.根据权利要求4所述的汽化系统,其特征在于,所述第三管路(52)上设有单向阀(53),所述单向阀(53)用于防止惰性气体或液态的所述前驱体逆流。
6.根据权利要求3所述的汽化系统,其特...
【专利技术属性】
技术研发人员:朱鹤囡,戴佳,孔琪,董雪迪,张武,
申请(专利权)人:拉普拉斯无锡半导体科技有限公司,
类型:新型
国别省市:
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