X射线源中的二次发射补偿制造技术

公开了一种X射线成像系统，该X射线成像系统包括：X射线源；样品位置；检测器，该检测器被布置成检测所述样品位置下游的X射线辐射；其中，所述X射线源包括：电子源，该电子源被布置成提供电子束；靶，该靶被布置成在被所述电子束撞击时产生X射线辐射，该靶包括基材和至少部分地覆盖所述基材的靶层，其中，所述靶层被布置成在被所述电子束撞击时产生X射线辐射；用于将该电子束引导至所述靶层上的第一位置以及第二位置的装置，该第二位置选自所述靶上该电子束直接撞击在该基材上的位置和电子束收集器上的位置，该电子束收集器被布置成使得通过该电子束与该电子束收集器之间的相互作用产生的X射线辐射基本上不会到达该检测器；控制器，该控制器被布置成使用所述检测器记录该电子束被引导至所述第一位置的第一图像以及该电子束被引导至所述第二位置的第二图像，并且生成该第一图像与该第二图像之间的差图像。还公开了一种用于X射线成像的方法。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

本公开涉及一种用于x射线成像的方法，并且涉及一种相关的x射线成像系统。

技术介绍

1、在本领域中众所周知的是，二次辐射可能会使x射线源出现问题，参见例如us2011/0176663。二次辐射通常被理解为除所期望辐射之外的任何辐射，并且可以例如源自x射线的散射或源自系统中的非预期的电子束相互作用。通常，努力的方向是减少所产生的二次辐射的量，这可以通过机械设计来实现，例如以避免来自可能产生二次辐射的元件的直接视线。减少这种二次辐射还可以通过仔细选择材料来实现，例如通过为原本可能产生二次辐射的元件提供具有低x射线产率材料(例如碳)的涂层。此外，常用的x射线检测器校准程序可以至少在一定程度上减小二次辐射的影响。

2、进一步地，被称为平场校正的程序通常包括将检测器暴露于均匀辐射。名义上，这将使得来自检测器上的每个像素的读出相等。然而，各种缺陷将导致像素之间存在差异。为了对此进行补偿，可以使用在均匀照射期间记录的值来调整随后记录的图像。然而，如果假设的均匀照射包括来自二次辐射源的贡献，即，其实际上不是均匀的，则此程序可以减小二次辐射在成像期间的影响。这种方本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种X射线成像系统，包括：

2.如权利要求1所述的系统，其中，所述用于引导的装置包括偏转器，该偏转器被布置成使该电子束偏转。

3.如权利要求1或2所述的系统，其中，所述用于引导的装置包括致动器，该致动器被布置成使该靶相对于该电子束移动。

4.如权利要求1至3中任一项所述的系统，进一步包括操纵器，该操纵器用于使该X射线源和该样品位置相对于彼此移动。

5.如权利要求1至4中任一项所述的系统，进一步包括限束元件，该限束元件布置在该电子源与该靶之间。

6.如权利要求5所述的系统，其中，当该电子束被引导至该第一位置和该第二位置时，由该...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

1.一种x射线成像系统，包括：

2.如权利要求1所述的系统，其中，所述用于引导的装置包括偏转器，该偏转器被布置成使该电子束偏转。

3.如权利要求1或2所述的系统，其中，所述用于引导的装置包括致动器，该致动器被布置成使该靶相对于该电子束移动。

4.如权利要求1至3中任一项所述的系统，进一步包括操纵器，该操纵器用于使该x射线源和该样品位置相对于彼此移动。

5.如权利要求1至4中任一项所述的系统，进一步包括限束元件，该限束元件布置在该电子源与该靶之间。

6.如权利要求5所述的系统，其中，当该电子束被引导至该第一位置和该第二位置时，由该电子束与...

【专利技术属性】
技术研发人员：丹尼尔·尼尔森，比约恩·汉森，乌尔夫·伦德斯托姆，
申请(专利权)人：伊克斯拉姆公司，
类型：发明
国别省市：