一种高催化活性锰基复合磨粒及其制备方法和应用技术

本申请提供了一种高催化活性锰基复合磨粒及其制备方法和应用，制备方法包括：将固体冰块、浓硫酸、石墨粉和硝酸钠加入烧瓶中；搅拌加入高锰酸钾；滴入去离子水后，升高至35℃下并保持2小时；将混合溶液加热至98℃并保持15分钟；待混合溶液冷却向混合溶液中加入过氧化氢溶液，得到亮黄溶液；将亮黄溶液使用稀盐酸进行洗涤后，采用抽滤、离心和干燥的分离方法来得到氧化石墨烯；将氧化石墨烯通过超声分散至去离子水中，加入硫酸锰后滴加高锰酸钾直到溶液不发生褪色，使得二氧化锰沉淀在氧化石墨烯上；加入氧化铝磨粒并超声分散，使得磨粒浸渍在氧化石墨烯上。本申请氧化石墨烯显著提高了二氧化锰对高锰酸钾的催化效果，进而提高了抛光速率。

【技术实现步骤摘要】

本申请设计抛光液所使用的磨粒领域，具体涉及一种高催化活性锰基复合磨粒及其制备方法和应用。

技术介绍

1、以碳化硅为衬底的功率器件，具有高强度、高硬度、耐高温、耐腐蚀等一系列优良的特性，因此得到了广泛运用。近年来，随着新能源、5g建设需求的进一步增加，市场对碳化硅材料的需求保持快速增长，这对碳化硅衬底的抛光质量提出了更高的要求，在去除碳化硅晶片表面的微凸起和微划痕等表面缺陷的同时，最大地提高碳化硅晶片的材料去除速率。

2、目前，普遍以高锰酸钾为氧化剂，采用化学机械抛光技术对碳化硅晶片表面进行抛光。为了进一步提高材料去除速率，添加合适的催化剂以促进高锰酸钾对碳化硅晶片的氧化速率是十分具有运用前景的。此外，提高催化剂的催化效果也可以显著提高材料去除速率。但现有技术中催化剂在化学机械抛光领域中应用受限，无法进一步提升化学机械抛光的材料去除率和效率。

技术实现思路

1、本实验的目的在于提供一种高催化活性锰基复合磨粒及其制备方法和应用，其中，氧化石墨烯显著提高了二氧化锰对高锰酸钾的催化效果，进而提高了抛光速率本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种高催化活性锰基复合磨粒的制备方法，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的一种高催化活性锰基复合磨粒的制备方法，其特征在于，步骤S01中浓硫酸、石墨粉和硝酸钠的质量比为430:6:3。

3.根据权利要求1所述的一种高催化活性锰基复合磨粒的制备方法，其特征在于，步骤S02中高锰酸钾和去离子水质量比为9:144。

4.根据权利要求1所述的一种高催化活性锰基复合磨粒的制备方法，其特征在于，步骤S04中过氧化氢溶液浓度为30wt.％，所述过氧化氢溶液和步骤S02中的高锰酸钾的质量比为30:9。

5.根据权利要求1所述的一种高催化活性锰基...

【技术特征摘要】

1.一种高催化活性锰基复合磨粒的制备方法，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的一种高催化活性锰基复合磨粒的制备方法，其特征在于，步骤s01中浓硫酸、石墨粉和硝酸钠的质量比为430:6:3。

3.根据权利要求1所述的一种高催化活性锰基复合磨粒的制备方法，其特征在于，步骤s02中高锰酸钾和去离子水质量比为9:144。

4.根据权利要求1所述的一种高催化活性锰基复合磨粒的制备方法，其特征在于，步骤s04中过氧化氢溶液浓度为30wt.％，所述过氧化氢溶液和步骤s02中的高锰酸钾的质量比为30:9。

5.根据权利要求1所述的一种高催化活...

【专利技术属性】
技术研发人员：雷红，陈是东，胡晓刚，陈怡，
申请(专利权)人：太仓硅源纳米材料有限公司，
类型：发明
国别省市：