真空吸附装置以及真空吸附产品方法制造方法及图纸

本发明专利技术属于吸附技术领域，公开了一种真空吸附装置以及真空吸附产品方法。该真空吸附装置包括腔体、载台以及抽真空件，腔体能打开或密封关闭；载台固定于腔体内部；抽真空件能在与载台连通的第一状态以及与载台和腔体同时连通的第二状态之间切换。腔体内的压强相较于载台内的压强而言更大，能将产品压在载台上，也就是说，在腔体内无限接近真空的状态下，产品仍能在载台上保持稳定吸附，不会发生移位或者脱落的情况。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及吸附，尤其涉及一种真空吸附装置以及真空吸附产品方法。

技术介绍

1、目前半导体设备、贴膜设备日趋增多，在真空腔体内进行产品贴附的场景越来越多，腔体内的全真空环境导致常规的负压吸附无法正常吸附产品(压差原因)，制程原因产品又必须得在载台上牢固固定，才能保证贴附的质量和精度，所以目前大部分设备都是在真空腔体内配置静电吸盘(esc)来吸附产品，使用静电吸附产品，不使用负压的方式来吸附产品。该方式吸附质量稳定，但造价很高，一般低附加值的设备无法使用，部分设备还是采用负压吸附的方式，因此腔体抽真空时，载台的产品经常掉落，造成设备稼动率较低。

2、因此，亟需一种真空吸附装置以及真空吸附产品方法，以解决上述问题。

技术实现思路

1、本专利技术的一个目的在于提供一种真空吸附装置，在真空腔体内抽真空后，仍能保证产品在载台上稳定吸附，避免产品在腔体真空状态下吸附掉落或者移位。

2、本专利技术的另一个目的在于提供一种真空吸附产品方法，保证产品在载台上稳定吸附，避免产品在腔体真空状态下吸附掉落或本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.真空吸附装置，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的真空吸附装置，其特征在于，所述真空吸附装置还包括：

3.根据权利要求2所述的真空吸附装置，其特征在于，所述载台(20)设置有两个，分别为第一载台(21)和第二载台(22)，所述连通组件(40)还包括第三支管路(43)，所述主管路(44)的另一端还分支出所述第三支管路(43)，所述第二支管路(42)连通所述第一载台(21)，所述第三支管路(43)连通所述第二载台(22)；

4.根据权利要求3所述的真空吸附装置，其特征在于，所述第一阀(51)、所述第二阀(52)以及所述第三阀(53)均为高真空挡...

【技术特征摘要】

1.真空吸附装置，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的真空吸附装置，其特征在于，所述真空吸附装置还包括：

3.根据权利要求2所述的真空吸附装置，其特征在于，所述载台(20)设置有两个，分别为第一载台(21)和第二载台(22)，所述连通组件(40)还包括第三支管路(43)，所述主管路(44)的另一端还分支出所述第三支管路(43)，所述第二支管路(42)连通所述第一载台(21)，所述第三支管路(43)连通所述第二载台(22)；

4.根据权利要求3所述的真空吸附装置，其特征在于，所述第一阀(51)、所述第二阀(52)以及所述第三阀(53)均为高真空挡板阀。

5.根据权利要求3所述的真空吸附装置，其特征在于，所述腔体(10)包括上腔体(11)和下腔体(12)，所述上腔体(11)和所述下腔体(12)能相互靠近或远离，所述第一载台(21)连接于所述下腔体(12)，所述第二载台(22)连接于所述上腔体(11)，且所述第一载台(21)和所述第二载台(22)的吸附面相对设置。

6.根据权利要求5所述的真空吸附装置，其特征在于，所述上腔体(11)和所述下腔体(12)均呈槽状且开口相对设置，所述上腔体(11)和所述下腔体(12)二者中的一个开设...

【专利技术属性】
技术研发人员：请求不公布姓名，请求不公布姓名，请求不公布姓名，
申请(专利权)人：苏州希盟智能装备有限公司，
类型：发明
国别省市：