【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于冶金化工,具体涉及一种富铜电解液锗络合试剂dh203及其制备方法与应用。
技术介绍
1、锗(ge)是一种重要的半导体材料,广泛应用于光电子器件、红外光学材料、光纤和太阳能电池等高科技领域。然而,锗在地壳中的含量较少,主要以伴生矿形式存在于铜矿石和锌矿石中。从富铜电解液中提取锗是一项具有重要工业和经济意义的技术。目前,锗络合剂主要包括有机酸(如酒石酸、草酸)、膦酸盐(如氯代二膦酸)和氨基羧酸(如edta)等。这些络合剂通过与锗离子形成稳定的络合物,使锗能够从电解液中选择性地沉淀或被吸附。然而,这些络合剂在实际应用中存在一些问题:①选择性不高:一些络合剂对锗的选择性较低,容易与其他金属离子(如铜、锌、铅等)形成络合物,影响锗的回收效率。②稳定性差:某些络合剂在电解液中的稳定性较差,容易分解或失效,导致锗的回收率降低。③成本高:高效的络合剂通常成本较高,增加了锗回收过程的经济负担。
2、因此,开发一种能解决上述技术问题的方法是非常必要的。
技术实现思路
1、本专利技术的
...【技术保护点】
1.一种富铜电解液锗络合试剂DH203,其特征在于,所述的富铜电解液锗络合试剂DH203是以乙二醛和氢氰酸为原料制备得到。
2.根据权利要求1所述的富铜电解液锗络合试剂DH203,其特征在于,所述的乙二醛和氢氰酸的摩尔比为1:1~1:2。
3.一种1或2所述的富铜电解液锗络合试剂DH203的制备方法,其特征在于,包括主反应和后处理步骤,具体包括:
4.根据权利要求3所述的制备方法,其特征在于,A步骤是将配方配比的乙二醛溶液置于反应容器中,在持续搅拌条件下,缓慢滴加配方配比的氢氰酸溶液至乙二醛溶液中,保持反应温度在0~25℃搅拌反应3
...【技术特征摘要】
1.一种富铜电解液锗络合试剂dh203,其特征在于,所述的富铜电解液锗络合试剂dh203是以乙二醛和氢氰酸为原料制备得到。
2.根据权利要求1所述的富铜电解液锗络合试剂dh203,其特征在于,所述的乙二醛和氢氰酸的摩尔比为1:1~1:2。
3.一种1或2所述的富铜电解液锗络合试剂dh203的制备方法,其特征在于,包括主反应和后处理步骤,具体包括:
4.根据权利要求3所述的制备方法,其特征在于,a步骤是将配方配比的乙二醛溶液置于反应容器中,在持续搅拌条件下,缓慢滴加配方配比的氢氰酸溶液至乙二醛溶液中,保持反应温度在0~25℃搅拌反应30~60min,然后加入过氧化氢溶液,保持反应温度在1~25℃继续搅拌反应60~90min得到反应液a。
5.根据权利要求3或4所述的制备方法,其特征在于,所述的过氧化氢溶液的体...
【专利技术属性】
技术研发人员:和晓才,李伊娜,和秋谷,徐远,徐庆鑫,施辉献,袁野,任婷,任玖阳,刘金月,孙应销,杨孟昌,方德,
申请(专利权)人:昆明冶金研究院有限公司,
类型:发明
国别省市:
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