【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及滤波器,尤其涉及一种混合滤波器及其制备方法。
技术介绍
1、集成无源器件(integtated passive devices,ipd)是利用半导体技术制备高质量集成电容、电感器件的工艺,虽然品质因数相对声学器件较低,但可以制备大带宽滤波器。通过将ipd与声学器件协同设计,可以实现具有大带宽及优异滚降特性的滤波器的制备。
2、智能手机中的射频前端模组对尺寸有很高的要求。在常用的混合滤波器工艺中,会将ipd元件与体声波(bulk acoustic wave,baw)器件同时制备在同一基板表面,这会导致器件具有较大的面积,难以满足射频前端模组越来越小型化的需求。
技术实现思路
1、本专利技术提供了一种混合滤波器及其制备方法,以解决现有技术中ipd元件与体声波器件结合造成混合滤波器体积大的问题。
2、根据本专利技术的一方面,提供了一种混合滤波器,其中包括:第一谐振器和第一无源结构;
3、第一谐振器包括第一衬底和第一换能结构;
4、第一
...【技术保护点】
1.一种混合滤波器,其特征在于,包括:第一谐振器和第一无源结构;
2.根据权利要求1所述的混合滤波器,其特征在于,所述第一基板朝向所述第一换能结构的一侧设置有凹槽,所述凹槽部分贯穿所述第一基板;
3.根据权利要求1所述的混合滤波器,其特征在于,所述第一衬底朝向所述第一换能结构的一侧设置有空腔,所述空腔部分贯穿所述衬底;沿所述混合滤波器厚度方向,所述空腔与所述第一换能结构的工作区域至少部分交叠。
4.根据权利要求1所述的混合滤波器,其特征在于,所述第一衬底朝向所述第一换能结构的一侧设置有空腔,所述空腔部分贯穿所述第一衬底;
【技术特征摘要】
1.一种混合滤波器,其特征在于,包括:第一谐振器和第一无源结构;
2.根据权利要求1所述的混合滤波器,其特征在于,所述第一基板朝向所述第一换能结构的一侧设置有凹槽,所述凹槽部分贯穿所述第一基板;
3.根据权利要求1所述的混合滤波器,其特征在于,所述第一衬底朝向所述第一换能结构的一侧设置有空腔,所述空腔部分贯穿所述衬底;沿所述混合滤波器厚度方向,所述空腔与所述第一换能结构的工作区域至少部分交叠。
4.根据权利要求1所述的混合滤波器,其特征在于,所述第一衬底朝向所述第一换能结构的一侧设置有空腔,所述空腔部分贯穿所述第一衬底;
5.根据权利要求1所述的混合滤波器,其特征在于,所述第一换能结构包括叠层设置的底电极、压电层和顶电极,所述顶电极...
【专利技术属性】
技术研发人员:刘文娟,王融汇,国世上,丁志鹏,孙成亮,
申请(专利权)人:武汉敏声新技术有限公司,
类型:发明
国别省市:
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