【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
技术介绍
1、随着微量分析技术的进步和现代技术的不断小型化,对在较小的微米(μm)至纳米(nm)尺度上具有更高分辨率和特定选择性的颗粒操纵仪器的需求日益增长。在微量分析领域诸如核法证和半导体中,对可以在空间上分辨μm级颗粒的仪器平台的需求是显而易见的,这些微量分析领域需要标识微米级颗粒并进行非破坏性重新定位,以使得能够经由若干互补分析平台进行连续分析。先进制造业诸如微电子也将受益于μm尺度至nm尺度颗粒操纵和分析技术以生成先进的材料并移除污染物。
2、现有的颗粒操纵仪器存在各种问题和缺点。例如,许多现有的颗粒操纵系统具有较差的分辨率,并且因此不能精确地检测、收集和/或操纵纳米尺度和微米尺度的颗粒。现有的颗粒操纵系统还缺乏准确性和选择性,使得难以或不可能定位和收集混合样品内的特定单独颗粒。颗粒污染和/或损坏是许多现有系统所面临的另一个问题。相对粗糙的探测器和/或收集技术通常导致颗粒表面被穿透或碎裂,并且在收集设备使用不纯材料的情况下,这可以导致样品污染。此外,许多现有系统需要大量的培训和/或经验来操作,与其他系统(例如,其他
...【技术保护点】
1.一种颗粒操纵系统,包括:
2.根据权利要求1所述的颗粒操纵系统,其中所述可移动探测器包括在其远端处具有开口的中空针,所述开口具有第一直径。
3.根据权利要求2所述的颗粒操纵系统,其中所述开口的所述第一直径小于所述目标颗粒的尺寸。
4.根据权利要求3所述的颗粒操纵系统,其中所述开口的所述第一直径在约0.1微米至约10微米的范围内。
5.根据权利要求1所述的颗粒操纵系统,其中:
6.根据权利要求1所述的颗粒操纵系统,还包括:
7.根据权利要求6所述的颗粒操纵系统,其中所述处理器被进一步配置为指示所
...【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种颗粒操纵系统,包括:
2.根据权利要求1所述的颗粒操纵系统,其中所述可移动探测器包括在其远端处具有开口的中空针,所述开口具有第一直径。
3.根据权利要求2所述的颗粒操纵系统,其中所述开口的所述第一直径小于所述目标颗粒的尺寸。
4.根据权利要求3所述的颗粒操纵系统,其中所述开口的所述第一直径在约0.1微米至约10微米的范围内。
5.根据权利要求1所述的颗粒操纵系统,其中:
6.根据权利要求1所述的颗粒操纵系统,还包括:
7.根据权利要求6所述的颗粒操纵系统,其中所述处理器被进一步配置为指示所述基于真空的探测器系统:
8.根据权利要求1所述的颗粒操纵系统,其中所述光学成像系统包括:
9.根据权利要求8所述的颗粒操纵系统,其中所述光学成像系统被配置为执行暗场光学显微术。
10.根据权利要求1所述的颗粒操纵系统,其中所述光学成像系统被配置为获取颗粒样品的高分辨率图像,所述颗粒样品包括尺寸在约0.01微米至约1,000微米...
【专利技术属性】
技术研发人员:K·R·迪·博纳,C·M·希尔,
申请(专利权)人:怀俄尼克斯有限责任公司,
类型:发明
国别省市:
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