【技术实现步骤摘要】
本技术涉及真空镀膜，具体涉及一种包含预装载腔室的蒸发真空镀膜设备的腔体。
技术介绍
1、真空镀膜方式按不同沉积原理，大致可分为蒸发镀膜，溅射镀膜及离子镀膜三类不同技术及设备，其中蒸发镀膜是指在真空环境中加热蒸发相关物质使其产生金属蒸汽，沉积在样品表面成为薄膜，该镀膜过程制成的薄膜纯度高、质量好，成膜速度快、效率高，薄膜的生长机理比较简单。
2、但是由于形成薄膜的过程中工艺腔内的粒子数量及密度较高，工艺过程存在重复性不够好的情况，现有的蒸发机构可能由于上述情况存在重复性较低的问题。
3、基于此，本技术设计了一种包含预装载腔室的蒸发真空镀膜设备的腔体以解决上述问题。
技术实现思路
1、针对现有技术所存在的上述缺点，本技术提供了一种包含预装载腔室的蒸发真空镀膜设备的腔体。
2、为实现以上目的，本技术通过以下技术方案予以实现：
3、一种包含预装载腔室的蒸发真空镀膜设备的腔体，包括工艺加工组件，所述工艺加工组件连接真空阀门组件，所述真空阀门组件连接有预...
【技术保护点】
1.一种包含预装载腔室的蒸发真空镀膜设备的腔体，包括工艺加工组件(3)，其特征在于：所述工艺加工组件(3)连接真空阀门组件(4)，所述真空阀门组件(4)连接有预装载组件(2)，预装载组件(2)连接有进样机械手(1)；
2.根据权利要求1所述的包含预装载腔室的蒸发真空镀膜设备的腔体，其特征在于，所述预装腔室主体(21)包括预装腔室(211)和预装腔门(212)，所述预装腔室(211)的一端与预装腔门(212)的一端铰接，所述预装腔室(211)的另一端与预装腔门(212)的另一端锁定连接，所述接口组件(22)设置于预装腔室(211)上。
3.根据权...
【技术特征摘要】
1.一种包含预装载腔室的蒸发真空镀膜设备的腔体，包括工艺加工组件(3)，其特征在于：所述工艺加工组件(3)连接真空阀门组件(4)，所述真空阀门组件(4)连接有预装载组件(2)，预装载组件(2)连接有进样机械手(1)；
2.根据权利要求1所述的包含预装载腔室的蒸发真空镀膜设备的腔体，其特征在于，所述预装腔室主体(21)包括预装腔室(211)和预装腔门(212)，所述预装腔室(211)的一端与预装腔门(212)的一端铰接，所述预装腔室(211)的另一端与预装腔门(212)的另一端锁定连接，所述接口组件(22)设置于预装腔室(211)上。
3.根据权利要求2所述的包含预装载腔室的蒸发真空镀膜设备的腔体，其特征在于，所述接口组件(22)包括第一接口(221)、第二接口(222)、第三接口(223)和第四接口(224)，所述第一接口(221)、第二接口(222)、第三接口(223)、第四接口(224)分别开设于预装腔室(211)的左侧壁、下侧壁、后侧壁、右侧壁上，所述进样机械手(1)与第一接口(221)固定密封连接，所述第二接口(222)与装载夹持组件(23)连接，所述第三接口(223)、第四接口(224)均与真空阀门组件(4)连接。
4.根据权利要求3所述的包含预装载腔室的蒸发真空镀膜设备的腔体，其特征在于，所述装载夹持组件(23)包括电动推...
【专利技术属性】
技术研发人员：李祥明，朱大军，刘晓涵，
申请(专利权)人：泽鸿半导体设备科技苏州有限公司，
类型：新型
国别省市：
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