【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种结构体、曝光设备和制品制造方法。
技术介绍
1、作为在半导体装置等的制造过程中使用的光刻设备，已知一种曝光设备，其在相对移动(扫描)原稿和基板的同时经由投影光学系统曝光基板，从而将原稿的图案转印到基板上。在这种曝光设备中，投影光学系统可能由于由保持原稿的台的移动产生的风压而振动。在这种情况下，可能难以将原稿的图案准确地转印到基板上。日本专利特开no.2011-146727和2009-182326中的每一个描述了一种布置，其中遮蔽板设置在分划板台和投影系统之间，以减少由分划板台的移动产生的气流和/或压力波引起的投影系统的激振。
2、在专利特开no.2011-146727和2009-182326中的每一个所描述的布置中，由于分划板台的移动所产生的气流和/或压力波，遮蔽板自身可能会振动。遮蔽板自身的这种振动可能引起投影光学系统的振动。通过增加遮蔽板的厚度以增加遮蔽板的刚度，可以减小遮蔽板本身的激振。然而，在这种情况下，遮蔽板的重量也增加，使得在设备的制造、维护等期间，可能变得难以附接和拆卸遮蔽板。
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【技术保护点】
1.一种形成曝光设备的一部分的结构体，所述曝光设备包括构造成在保持原稿的同时在基部上移动的台和构造成将所述原稿的图案图像投影到基板上的投影光学系统，所述结构体包括：
2.根据权利要求1所述的结构体，其中
3.根据权利要求2所述的结构体，还包括固定构件，所述固定构件连接到所述多个支撑构件中的每个支撑构件的端部部分，
4.根据权利要求1所述的结构体，其中
5.根据权利要求1所述的结构体，其中
6.根据权利要求5所述的结构体，其中
7.根据权利要求6所述的结构体，其中
8.根据权利要求1所述
【技术特征摘要】
1.一种形成曝光设备的一部分的结构体，所述曝光设备包括构造成在保持原稿的同时在基部上移动的台和构造成将所述原稿的图案图像投影到基板上的投影光学系统，所述结构体包括：
2.根据权利要求1所述的结构体，其中
3.根据权利要求2所述的结构体，还包括固定构件，所述固定构件连接到所述多个支撑构件中的每个支撑构件的端部部分，
4.根据权利要求1所述的结构体，其中
5.根据权利要求1所述的结构体，其中
6.根据权利要求5所述的结构体，其中
7.根据权利要求6所述的结构体，其中
8.根据权利要求1所述的结构体，其中...
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