用于等离子体涂层设备的改进的雾化器制造技术

本发明专利技术涉及气溶胶生成装置，用于为等离子体涂层加工生成包括前体的气溶胶流，气溶胶生成装置包括气溶胶液滴分离器和成组雾化隔室，其中气溶胶液滴分离器包括喷嘴出口、前体回收出口和其间的气溶胶通道，且其中每个雾化隔室包括：－流体流通道，其包括雾化器气流入口，以及流体连接至气溶胶通道的雾化器气流出口；－前体通道，其包括前体通道入口和前体通道出口，前体通道出口流体连接至流体流通道，用于将前体液滴引入到流体流通道中的气流中；－前体贮存器，用于液体前体，其与前体通道入口流体连接；－液滴引入器件，液滴引入器件位于前体通道出口处或附近，用于将液体前体液滴从前体贮存器、经由前体通道引入到流体流通道中的气流中；－稀释流通道，其与流体流通道分离，稀释流通道包括稀释流入口，以及流体连接至气溶胶通道的稀释流出口，其中对于每个雾化隔室，稀释流出口位于雾化器气流出口与气溶胶液滴分离器的喷嘴出口之间。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

本专利技术涉及一种改进的用于等离子体涂层设备的雾化器，以及一种改进的将用于等离子体涂层方法的液体雾化的方法。因此，本专利技术涉及雾化器领域且涉及等离子体涂层方法和设备领域。

技术介绍

1、等离子体涂层/涂覆是一种使用前体在基材上沉积涂层的技术。在此，前体会被激发以更具反应性，使得更容易在基材上形成高质量的涂层。可以经由等离子体加工直接或间接获得对前体的激发。

2、在直接等离子体涂层加工中，对包括前体的流体进行等离子化处理，例如让流体流经成组电极，通过施加高电压将等离子体(击穿)注入流体中。在这种直接加工中，前体可以直接被激发。激发后的前体可以与基材相互作用，从而将涂层形成到基材上。

3、在间接等离子体涂层加工中，对加工流体、优选时加工气体进行等离子化处理，例如让加工流体在成组电极之间流动，这些电极可以通过施加高电压将等离子体注入加工流体中。然后，等离子化的加工气体离开等离子体区域，即离开等离子体被活跃引发的区域，例如是成组电极之间的区域。然后，包括前体的流体与等离子体余辉中的等离子化的加工气体混合。然后，由于与等离子化的加工气体的二本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种气溶胶生成装置，用于为等离子体涂层加工生成包括前体的气溶胶流，所述气溶胶生成装置包括气溶胶液滴分离器和成组雾化隔室，

2.根据权利要求1所述的气溶胶生成装置，其特征在于，所述稀释流通道基本上平行于所述流体流通道定向。

3.根据前述权利要求中任一权利要求所述的气溶胶生成装置，其特征在于，所述气溶胶通道基本上垂直于所述流体流通道和/或所述稀释流通道定向。

4.根据前述权利要求中任一权利要求所述的气溶胶生成装置，其特征在于，所述稀释流出口位于距离所述雾化器气流出口10厘米或更小的出口间距内，所述出口间距比如是10厘米、9厘米、8厘米、7厘米、6厘米、...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

1.一种气溶胶生成装置，用于为等离子体涂层加工生成包括前体的气溶胶流，所述气溶胶生成装置包括气溶胶液滴分离器和成组雾化隔室，

2.根据权利要求1所述的气溶胶生成装置，其特征在于，所述稀释流通道基本上平行于所述流体流通道定向。

3.根据前述权利要求中任一权利要求所述的气溶胶生成装置，其特征在于，所述气溶胶通道基本上垂直于所述流体流通道和/或所述稀释流通道定向。

4.根据前述权利要求中任一权利要求所述的气溶胶生成装置，其特征在于，所述稀释流出口位于距离所述雾化器气流出口10厘米或更小的出口间距内，所述出口间距比如是10厘米、9厘米、8厘米、7厘米、6厘米、5厘米、4厘米、3厘米、2厘米、1厘米或其中两者之间或这些值以下的任何值。

5.根据前述权利要求中任一权利要求所述的气溶胶生成装置，其特征在于，所述雾化器气流入口连接至雾化气源，其中，所述稀释流入口连接至稀释气源，并且/或者其中，所述前体贮存器包含液体前体。

6.根据前述权利要求中任一权利要求所述的气溶胶生成装置，其特征在于，所述液滴引入器件包括文丘里管，所述文丘里管在所述前体通道出口位置处位于所述流体流通道中。

7.根据前述权利要求中任一权利要求所述的气溶胶生成装置，其特征在于，所述成组雾化隔室包括多于一个雾化隔室，其中所述成组雾化隔室中的每个所述雾化隔室的雾化器气流出口流体连接至所述气溶胶通道。

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【专利技术属性】
技术研发人员：R·黑博格，B·肖恩斯，J·博瑞克唐顿，
申请(专利权)人：分子等离子集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：