用于基材上的大气压等离子射流涂覆沉积的改进方法和装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种用于等离子涂覆包括物体轮廓的物体的方法，包括以下步骤：a.制造能更换的遮护件(2)，该遮护件包括射流入口(22)、喷嘴出口(24)和从射流入口延伸至喷嘴出口的侧壁(21)，其中，喷嘴出口包括与物体轮廓的至少一部分基本上一致的边缘(25)；b.将能更换的遮护件能拆卸地附连到等离子射流发生器的射流出口；c.将物体放置在喷嘴出口处，使得物体轮廓紧密地配合喷嘴出口边缘，从而使喷嘴出口与物体之间的间隙最小化；d.通过经由等离子射流发生器在遮护件中提供等离子射流，并在遮护件中的等离子射流中喷射涂层前体，由此产生操作压力，在高于大气压力、优选地至多10％的操作压力下，从而利用低温无氧等离子体对物体进行涂覆，从而在氧耗尽的等离子体区中对物体进行等离子涂覆。等离子涂覆。等离子涂覆。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于基材上的大气压等离子射流涂覆沉积的改进方法和装置


[0001]本专利技术涉及等离子体沉积的
因此，本专利技术可以涉及IPCH05h1/24和/或IPCB01J19/08。

技术介绍

[0002]相对于其它涂覆技术，特别是相对于通过使物体经受含有涂覆物质的液体来施加涂层的湿法技术，通过等离子体沉积进行涂覆提供了许多益处。例如，等离子涂覆允许非常薄的涂层，这允许涂覆的物体具有所有类型形状，涂覆物质的损失很少等。
[0003]等离子涂覆技术通常可以分为真空技术和大气技术。本专利技术涉及大气等离子涂覆，其中等离子体的压力接近大气压。实际上，等离子体压力可以与大气压力稍微不同，例如稍微过压。大气等离子涂覆技术具有优于真空等离子涂覆技术的主要优点，因为不需要真空腔室并且涂覆过程可以容易地在线进行。
[0004]专利文献EP0217399A2、US3914573A、US2017/095929A1和EP1875785A1中公开了许多等离子涂覆方法。这些文献涉及将等离子体加热到1000℃或更高并将等离子体高速地喷涂到基材上的特定类型的本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种用于对包括物体轮廓的物体进行等离子涂覆的方法，包括以下步骤：a.制造能更换的遮护件(2)，所述遮护件(2)包括射流入口(22)、喷嘴出口(24)和从所述射流入口延伸至所述喷嘴出口的侧壁(21)，其中，所述喷嘴出口包括与所述物体轮廓的至少一部分基本上一致的边缘(25)；b.将能更换的所述遮护件能拆卸地附连到等离子射流发生器的射流出口；c.将所述物体放置在所述喷嘴出口处，使得所述物体轮廓紧密地配合所述喷嘴出口边缘，从而使所述喷嘴出口与所述物体之间的间隙最小化；d.通过经由所述等离子射流发生器在所述遮护件中提供等离子射流，并在所述遮护件中的所述等离子射流中喷射涂层前体，由此产生操作压力，所述操作压力高于大气压力、优选地至多高10％，在所述操作压力下利用低温无氧等离子体对所述物体进行涂覆，从而在氧耗尽的等离子体区中对所述物体进行等离子涂覆。2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，在步骤d中，在低于120℃、优选地低于70℃的温度下涂覆所述等离子体。3.如权利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述遮护件通过适配器(3)能拆卸地附连到所述射流出口，所述适配器构造成用于将所述遮护件能拆卸地附连到所述等离子射流发生器上，并且其中将所述等离子射流发生器的所述射流出口与所述遮护件的所述射流入口连通地联接。4.如权利要求1至3中任一项所述的方法，其特征在于，为了对多种类型的物体进行等离子涂敷，每种类型的物体包括不同的物体轮廓，其中，对每种类型的物体执行步骤a，由此制造多个能更换的遮护件，每个遮护件包括喷嘴出口，所述喷嘴出口具有与相应物体的至少部分物体轮廓基本上一致的喷嘴出口边缘。5.如权利要求1至4中任一项所述的方法，其特征在于，所述遮护件的所述侧壁包括至少一个前体入口(27)，并且其中，所述涂层前体通过所述至少一个前体入口被注入到所述遮护件的所述等离子射流中。6.如权利要求1至5中任一项所述的方法，其特征在于，步骤d包括以下步骤：e.使所述物体的表面和所述喷嘴出口相对地移动，以在所述表面上沉积涂层。7.如权利要求6所述的方法，其特征在于，在使所述物体的表面和所述喷嘴出口相对地移动以在所述表面上沉积涂层的步骤e期间，所述边缘被保持为与基材的所述表面相距至少0.1mm且至多5mm、优选地至少0.2mm且至多2mm、更优选地至少0.5mm且至多1mm的距离处，并且由此在所述表面上沉积涂层。8.如权利要求6或7所述的方法，其特征在于，所述物体轮廓沿纵向方向基本上相同，并且所述相对运动包括沿所述纵向方向的相对平移。9.如权利要求8所述的方法，其特征在于，所述边缘是与所述物体轮廓周向地一致的第一边缘，并且其中，所述遮护件包括第二边缘，所述第二边缘是与所述物体轮廓周向地一致的物体入口边缘，并且其中，所述相对运动包括所述物体在纵向方向上从所述物体入口边缘通过所述遮护件内的处理腔室到所述第一边缘的运动。10.如权利要求6至7中任一项所述的方法，其特征在于，所述物体轮廓围绕中心轴线基本上轴对称，并且所述相对运动包括围绕所述中心轴线的相对旋转。11.如权利要求1至10中任一项所述的方法，其特征在于，
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所述物体是具有包括在纵向方向上相同的基本上圆形的横截面的轮廓的纤维，优选地由此使用如权利要求9所述的方法，其中，所述第一边缘和所述第二边缘包括具有与所述纤维的横截面一致的直径的圆形开口，从而允许所述纤维通过所述第一边缘和所述第二边缘的所述开口；或者-所述物体是沿纵向方向吹制的粉末，从而形成具有包括基本上圆形横截面的轮廓的粉末束，所述横截面具有沿纵向方向相同或沿纵向方向变化的直径，优选地由此使用如权利要求9所述的方法，其中，所述第一边缘和所述第二边缘包括相应的圆形开口，所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：G，
申请(专利权)人：分子等离子集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：