【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于超光谱成像，具体涉及一种应用于二维超光谱成像设备的最优化调焦及交替色差校正方法。
技术介绍
1、目前用于环境监测领域的成像光谱技术主要分为可以分为两大类：一种是相机方法，一次性获取所有空间维信息，然后通过切换不同滤光装置来补足光谱维信息；另一种是超光谱方法，一次性获取所有光谱维信息，然后通过改变观测视场来获取不同空间维信息。
2、对于监测气体成分这一需求，为了确保目标成分浓度的准确性，需要较高质量的光谱，因此超光谱成像是当前环境监测领域的主流成像方式。超光谱成像又分为两类，一类是线阵“摆扫式”一维成像，另一类是面阵“推扫式”二维成像。二者最主要的区别是二维成像使用二维探测器，能够直接获得一列空间维的信息，因此大大提高了观测的时间分辨率和空间分辨率。
3、在一维二维超光谱成像设备中，由于成像分辨率很低，成像结果呈现“马赛克”状，因此由于色差导致的虚焦问题很难体现。二维超光谱大气痕量组分成像设备的应用中，由于可以直接通过推扫获得高分辨成像结果，因此色差问题比一维成像设备更为突出。
4、色差问...
【技术保护点】
1.一种应用于二维超光谱成像设备的最优化调焦及交替色差校正方法，其特征在于，包括以下步骤：
2.根据权利要求1所述的应用于二维超光谱成像设备的最优化调焦及交替色差校正方法，其特征在于，使用拉普拉斯算子对超光谱图像进行卷积计算，并对卷积后图像矩阵求出标准差作为各通道的清晰度，包括：
3.根据权利要求1所述的应用于二维超光谱成像设备的最优化调焦及交替色差校正方法，其特征在于，按照波段的重叠情况并依据各通道的清晰度计算各波段的清晰度，包括：
4.根据权利要求1所述的应用于二维超光谱成像设备的最优化调焦及交替色差校正方法，其特征在于，依据各...
【技术特征摘要】
1.一种应用于二维超光谱成像设备的最优化调焦及交替色差校正方法，其特征在于，包括以下步骤：
2.根据权利要求1所述的应用于二维超光谱成像设备的最优化调焦及交替色差校正方法，其特征在于，使用拉普拉斯算子对超光谱图像进行卷积计算，并对卷积后图像矩阵求出标准差作为各通道的清晰度，包括：
3.根据权利要求1所述的应用于二维超光谱成像设备的最优化调焦及交替色差校正方法，其特征在于，按照波段的重叠情况并依据各通道的清晰度计算各波段的清晰度，包括：
4.根据权利要求1所述的应用于二维超光谱成像设备的最优化调焦及交替色差校正方法，其特征在于，依据各波段的清晰度得到单次观测的总清晰度，包括：
5.根据权利要求1所述的应用于二维超光...
【专利技术属性】
技术研发人员：刘诚，李熠楷，邢成志，陈健，焦沛媛，方嘉乐，
申请(专利权)人：中国科学技术大学，
类型：发明
国别省市：
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