清洗剂及其制备方法、应用技术

技术编号:43453639 阅读:17 留言:0更新日期:2024-11-27 12:54
本申请提供一种清洗剂,包括有机酸、螯合剂、Gemini表面活性剂、pH调节剂、非离子梳状聚合物分散剂和去离子水,所述清洗剂的pH小于3。本申请提供的清洗剂利于降低生产及使用过程中的安全风险、利于提高金属氧化物洗脱效率和利于防止杂质重新聚集和沉积,进而减少清洗物件表面的金属杂质含量。本申请还提供清洗剂的制备方法以及清洗剂的应用。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及清洗液的,具体涉及一种清洗剂及其制备方法、应用


技术介绍

1、单晶硅作为光伏发电的核心组成,需要将硅料熔铸成单晶硅棒,而硅料表面的清洁程度对后续电池片的效率和良率有着重要的影响。

2、另外,为了提高硅料的利用率,单晶硅棒的倒角正在逐步减小,同时表面硅粉含量也越来越多。在清洗过程中,硅料表面的杂质会被清洗剂吸附和溶解,以达到清洁的目的。然而,由于清洗剂的消耗或冲洗过程中的不完全去除,一些硅粉和金属离子可能会在清洗剂去除后重新附着在硅料表面,形成新的污染。这种重新附着的现象对于单晶硅的成晶效率具有负面影响。重新附着的硅粉和金属离子可能会在单晶硅棒的生长过程中被包裹在晶体内部或附着在晶界上,导致晶体的缺陷和杂质含量增加。这会降低单晶硅的晶体质量和电子性能,影响光伏电池的效率和可靠性。


技术实现思路

1、为了克服现有技术的不足,本专利技术的目的在于提供一种利于降低生产及使用过程中的安全风险、利于提高金属氧化物洗脱效率和利于防止杂质重新聚集和沉积的清洗剂,进而减少清洗物件表面的金属杂质含量。本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种清洗剂,其特征在于,包括有机酸、螯合剂、Gemini表面活性剂、pH调节剂、非离子梳状聚合物分散剂和去离子水,所述清洗剂的pH小于3。

2.如权利要求1所述的清洗剂,其特征在于,按重量份数计,所述清洗剂包括:

3.如权利要求1或2所述的清洗剂,其特征在于,所述螯合剂选自乙二胺四乙酸和羟基乙叉二膦酸的至少一种。

4.如权利要求1或2所述的清洗剂,其特征在于,所述Gemini表面活性剂选自双N-烷基吡啶溴盐、双N-烷基季铵盐和双癸基二苯醚二磺酸钠的至少一种。

5.如权利要求1或2所述的清洗剂,其特征在于,所述非离子梳状聚合物分散剂选自聚...

【技术特征摘要】

1.一种清洗剂,其特征在于,包括有机酸、螯合剂、gemini表面活性剂、ph调节剂、非离子梳状聚合物分散剂和去离子水,所述清洗剂的ph小于3。

2.如权利要求1所述的清洗剂,其特征在于,按重量份数计,所述清洗剂包括:

3.如权利要求1或2所述的清洗剂,其特征在于,所述螯合剂选自乙二胺四乙酸和羟基乙叉二膦酸的至少一种。

4.如权利要求1或2所述的清洗剂,其特征在于,所述gemini表面活性剂选自双n-烷基吡啶溴盐、双n-烷基季铵盐和双癸基二苯醚二磺酸钠的至少一种。

5.如权利要求1或2所述的清洗剂,其特征在于,所述非离子梳状聚合物分散剂选自聚乙烯氧化物、聚乙二醇辛酸酯、聚甲基丙烯酸酯、聚乙二醇-辛醇酸...

【专利技术属性】
技术研发人员:王祺全晓冬毕喜行徐志群
申请(专利权)人:广东金湾高景太阳能科技有限公司
类型:发明
国别省市:

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