【技术实现步骤摘要】
本技术属于led芯片,具体涉及一种外延生长设备mo源过滤装置。
技术介绍
1、由于mocvd生长过程中,外延生长设备的固态源瓶中颗粒物会随mo源进入mo管道、mfc等器件,导致其内部出现残留物,日积月累下会导致mo source mfc(alkyl flow mfc)达不到设定值而出现性能异常,从而影响到机台正常量产。由于目前未对alkyl flow mfc达不到设定值的情况进行预防,待其发生异常后,必须安排更换,而更换后需要coating、曝气、pm等手法进行复机,且复机较困难,一般需要1-10天,严重影响生产效率。因此,现亟需针对mo源进行过滤和预防处理,避免或减少因出现mo源残留而导致alkyl flow mfc无法达到设定值需要更换及mocvd复机的麻烦。
技术实现思路
1、本技术针对
技术介绍
中的不足,提供了一种外延生长设备mo源过滤装置,从源头着手,对大体积颗粒物进行过滤,有效避免mo管道、mfc等器件出现mo源残留而影响alkyl flow mfc性能,减少更换及复机的麻烦。< ...
【技术保护点】
1.一种外延生长设备MO源过滤装置,其特征在于:包括源瓶、进气管、过渡管、出气管和过滤器,所述源瓶上连接有进气管和过渡管,所述过渡管与出气管之间连接有过滤器,所述过滤器包括壳体和过滤网,所述过滤网设于壳体内部,且与壳体之间为可拆卸连接。
2.如权利要求1所述的一种外延生长设备MO源过滤装置,其特征在于:所述过滤网与设在壳体上的插槽配合连接。
3.如权利要求2所述的一种外延生长设备MO源过滤装置,其特征在于:所述过滤网与插槽的连接处设有密封垫A。
4.如权利要求1所述的一种外延生长设备MO源过滤装置,其特征在于:所述过滤网的数量至少为
...【技术特征摘要】
1.一种外延生长设备mo源过滤装置,其特征在于:包括源瓶、进气管、过渡管、出气管和过滤器,所述源瓶上连接有进气管和过渡管,所述过渡管与出气管之间连接有过滤器,所述过滤器包括壳体和过滤网,所述过滤网设于壳体内部,且与壳体之间为可拆卸连接。
2.如权利要求1所述的一种外延生长设备mo源过滤装置,其特征在于:所述过滤网与设在壳体上的插槽配合连接。
3.如权利要求2所述的一种外延生长设备mo源过滤装置,其特征在于:所述过滤网与插槽的连接处设有密封垫a。
4.如权利要求1所述的一种外延生长设备mo源过滤装置,其特征在于:所述过滤网的数量至少为两个,至少两个过滤网沿过mo源输送方向间隔分布。
5.如权利要求1至4任意一项所述的一种外延生长设备mo源过滤装置,其特征在于:所述过滤网包括框架和设于框架内...
【专利技术属性】
技术研发人员:徐志军,饶晓松,张成旺,江汉,刘勇,谢陶,
申请(专利权)人:聚灿光电科技宿迁有限公司,
类型:新型
国别省市:
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