半导体或光伏行业含硅烷尾气的纯化系统技术方案

技术编号:43416775 阅读:23 留言:0更新日期:2024-11-22 17:51
本发明专利技术涉及含硅烷尾气的回收利用领域,具体涉及半导体或光伏行业含硅烷尾气的纯化系统。本发明专利技术提供半导体或光伏行业含硅烷尾气的纯化系统,包括依次连接的过滤装置、压缩机和冷箱,所述冷箱包括换热器和气液分离器,所述换热器包括第一换热器、第二换热器、第三换热器、第四换热器、第五换热器和第六换热器;所述气液分离器包括第一气液分离器、第二气液分离器和第三气液分离器。本发明专利技术能够将针对含硅烷尾气中的可用组分回收回来继续使用,不仅能够产生一定的经济效益,降低生产成本,还能解决环保隐患。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及含硅烷尾气的回收利用领域,具体涉及半导体或光伏行业含硅烷尾气的纯化系统


技术介绍

1、硅烷(sih4)是一种很重要的电子气体,由硅原子和氢原子组成的类似于甲烷的化合物。随着半导体科技的崛起,硅烷开始在电子行业得到越来越广泛的应用,每年有数以百吨计的硅烷气体直接应用于制造各种各样的新材料和新器件。同时,硅烷气体在高清晰度平面显示器、高效率低成本太阳能电池、高效能陶瓷发动机零件等领域均有广泛的应用。

2、在太阳能电池领域,为了减少硅片表面的入射光反射率,增加光的吸收,通常会在硅片表面制备一层减反射膜,可以大大的降低太阳光的反射。采用cvd法(化学气相沉积法)制备的氮化硅薄膜,既具有良好的减反射效果,又有很好的表钝化和体钝化的作用,现在生产中使用最为普遍。硅烷是通常被用来制备氮化硅薄膜的材料之一,一般性的反应方程式为:4nh3+ 3sih4= si3n4+ 12h2。类似的在光伏电池制造过程中通常需要沉积一定厚度的非晶硅或多晶硅层,同样需要应用硅烷气;另外在半导体行业制备外延层过程中也需要应用硅烷气进行外延层沉积,一般性的反应方程式为本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.半导体或光伏行业含硅烷尾气的纯化系统,其特征在于,包括依次连接的过滤装置、压缩机和冷箱,所述冷箱包括换热器和气液分离器,其中,

2.根据权利要求1所述的纯化系统,其特征在于,

3.根据权利要求2所述的纯化系统,其特征在于,

4.根据权利要求3所述的纯化系统,其特征在于,

5.根据权利要求4所述的纯化系统,其特征在于,

6.根据权利要求1所述的纯化系统,其特征在于,所述冷箱中的冷源为外界供给的液氩。

7.半导体或光伏行业含硅烷尾气的纯化方法,其特征在于,包括以下步骤:

8.根据权利要求1所述的纯化系统,...

【技术特征摘要】

1.半导体或光伏行业含硅烷尾气的纯化系统,其特征在于,包括依次连接的过滤装置、压缩机和冷箱,所述冷箱包括换热器和气液分离器,其中,

2.根据权利要求1所述的纯化系统,其特征在于,

3.根据权利要求2所述的纯化系统,其特征在于,

4.根据权利要求3所述的纯化系统,其特征在于,

5.根据权利要求4所述的纯化系统,其特征在于,

6.根据权利要求1所述的纯化系统,其...

【专利技术属性】
技术研发人员:钟德京丁俊王树彬黄定鑫
申请(专利权)人:长沙安思新能源科技有限公司
类型:发明
国别省市:

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1