本公开涉及光学薄膜技术领域，具体而言，涉及一种镀膜件的制备方法、镀膜件及光学元件。镀膜件的制备方法，包括如下步骤：S1.在承载基底表面镀制牺牲层，然后在所述牺牲层的表面以倒序的方式镀制膜系，然后将镀膜基底与所述膜系的表面粘合；S2.去除步骤S1得到的制件的所述牺牲层和所述承载基底，得到所述镀膜件。本公开通过在承载基底上先镀制牺牲层，再倒序镀制膜系，然后将膜系与镀膜基底粘合的方式，显著提高镀膜件的膜层牢固度以及避免膜裂问题。同时，本公开的镀膜件的制备方法，适用于不同的膜系，普适性好。
【技术实现步骤摘要】
本公开涉及光学薄膜，具体而言，涉及一种镀膜件的制备方法、镀膜件及光学元件。
技术介绍
1、现代的光学元件离不开光学薄膜，现有的光学薄膜不局限于单层光学薄膜，还包括少则几层、十几层，多则几十层到上百层的多层光学薄膜，这类光学薄膜的波长范围可包括紫外光、可见光以及中红外光等，例如现有常见的增透膜、高反膜、分光膜、分束膜、截止膜、导电膜等。
2、聚甲基丙烯酸甲酯(polymethyl methacrylate，简称为pmma)由于其出色的透明性、较低的折射率、较高的机械强度和良好的化学稳定性，是理想的光学薄膜用基底材料。然而现有以pmma形成的结构作为基底，在其表面设置膜层时，表面的膜层牢固度低，并且常出现膜裂问题。此外，光学薄膜的膜系变化多样，品种繁多，对于不同的膜系通常要重新探索镀膜工艺，导致研发成本的增加。
技术实现思路
1、本公开实施例至少提供一种镀膜件的制备方法、镀膜件及光学元件。
2、第一方面，本公开实施例提供了一种镀膜件的制备方法，包括如下步骤：
>3、s1.在承载基本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.镀膜件的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：
2.根据权利要求1所述的镀膜件的制备方法，其特征在于，所述镀膜基底的材质包括PMMA和环烯烃共聚物中的至少一种。
3.根据权利要求1所述的镀膜件的制备方法，其特征在于，所述镀膜基底包括具有平面的基底和具有曲面的基底中的至少一种。
4.根据权利要求1所述的镀膜件的制备方法，其特征在于，所述承载基底的材质包括玻璃和硅中的至少一种。
5.根据权利要求1所述的镀膜件的制备方法，其特征在于，所述承载基底的承载面与所述镀膜基底的粘合面相匹配。
6.根据权利要求1所述的镀膜件的制备方法，其特征...
【技术特征摘要】
1.镀膜件的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：
2.根据权利要求1所述的镀膜件的制备方法，其特征在于，所述镀膜基底的材质包括pmma和环烯烃共聚物中的至少一种。
3.根据权利要求1所述的镀膜件的制备方法，其特征在于，所述镀膜基底包括具有平面的基底和具有曲面的基底中的至少一种。
4.根据权利要求1所述的镀膜件的制备方法，其特征在于，所述承载基底的材质包括玻璃和硅中的至少一种。
5.根据权利要求1所述的镀膜件的制备方法，其特征在于，所述承载基底的承载面与所述镀膜基底的粘合面相匹配。
6.根据权利要求1所述的镀膜件的制备方法，其特征在于，所述牺牲层为水溶性牺牲层。
7.根据权利要求1所述的镀膜件的制备方法，...
【专利技术属性】
技术研发人员：闫冠屹，何咏，
申请(专利权)人：北京极溯光学科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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