研磨用组合物制造技术

提供一种可以实现对研磨对象物的优异的研磨去除速度的研磨用组合物。本发明专利技术提供的研磨用组合物用于研磨对象物的研磨。上述研磨用组合物包含水、作为氧化剂的高锰酸钠和与氧化剂不同的过渡金属盐，且包含超过10重量％的氧化剂。在一些优选的方式中，上述过渡金属盐为氧过渡金属盐、或者为包含过渡金属与氧和/或氢的多核过渡金属络合物。上述研磨用组合物也优选应用于由具有1500Hv以上的维氏硬度的高硬度材料构成的研磨对象物的研磨。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

本专利技术涉及研磨用组合物。本申请基于2022年3月30日申请的日本专利申请第2022-056781号主张优先权，将该申请的全部内容作为参照并入至本说明书中。

技术介绍

1、使用研磨用组合物对金属、半金属、非金属、其氧化物等材料的表面进行研磨。例如，对于由碳化硅、碳化硼、碳化钨、氮化硅、氮化钛、氮化镓等化合物半导体材料构成的表面而言，通过在其表面与研磨平板之间供给金刚石磨粒而进行研磨(磨削(lapping))来加工。然而，在使用金刚石磨粒的磨削中，容易因刮痕、凹痕的产生、残留等而产生缺陷、变形。因此，正在研究在使用金刚石磨粒的磨削后、或代替该磨削而进行使用研磨垫和研磨用组合物的研磨(抛光(polishing))。作为公开这样的现有技术的文献，可举出专利文献1。

2、现有技术文献

3、专利文献

4、专利文献1：国际公开第2016/072370号

技术实现思路

1、通常，从制造效率、成本效益的角度出发，期望研磨去除速度在实用方面足够快。例如，在由如碳化硅等这样的高硬度材料构成的本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种研磨用组合物，其包含：

2.根据权利要求1所述的研磨用组合物，其中，所述过渡金属盐为氧过渡金属盐、或者为包含过渡金属与氧和/或氢的多核过渡金属络合物。

3.根据权利要求1或2所述的研磨用组合物，其还包含磨粒。

4.根据权利要求1～3中任一项所述的研磨用组合物，其pH为1.0以上且小于6.0。

5.根据权利要求1～4中任一项所述的研磨用组合物，其用于维氏硬度为1500Hv以上的材料的研磨。

6.根据权利要求1～5中任一项所述的研磨用组合物，其用于碳化硅的研磨。

7.一种研磨方法，其包括使用权利要求1～6中任一项...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

1.一种研磨用组合物，其包含：

2.根据权利要求1所述的研磨用组合物，其中，所述过渡金属盐为氧过渡金属盐、或者为包含过渡金属与氧和/或氢的多核过渡金属络合物。

3.根据权利要求1或2所述的研磨用组合物，其还包含磨粒。

4.根据权利要求1～3中任一项所述的研磨用组合物，其ph为1.0以上且小于6.0。

5.根据权利要求1～4中任一项所述的研磨用组合物，其用于维氏硬度为1500hv以上的材料的研磨。

6.根据权利要求1～5中任一项所述的研磨用组合物，其用于碳化硅的研磨。

7.一种研磨方法，其包括使用权利要求1～6中任一项所述的研磨用组合物对研磨对象物进行研磨的工序。

8.一种多组分型的研磨用组合物，其包含：

9.根据权利要求8所述的多组分型的研磨用组合物，其中，所述过渡金属盐为氧过渡金属盐、或者为包含过渡金属、氧和...

【专利技术属性】
技术研发人员：中贝雄一郎，
申请(专利权)人：福吉米株式会社，
类型：发明
国别省市：