【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于半导体生产，尤其涉及一种化学品供应系统及控制方法。
技术介绍
1、在现有的光刻涂胶显影机台中，化学品供应是实现光刻工艺和显影工艺的关键组成部分。现有的化学品供应方式通常采用pcs泵，在恒定压力下推动化学品从过滤器通过管道输送至储液罐，然后从储液罐中抽取化学品，并通过喷嘴喷出以供光刻工艺使用。
2、然而，现有的化学品供应方式主要存在以下几个问题：(1)在光刻机台不进行光刻工艺操作时，仍需周期性地运行模拟工艺，以保持管路畅通，避免堵塞和新缺陷的生成，这导致了在非工艺期间产生不必要的化学品消耗，增加了半导体产品的生产成本；(2)光刻工艺设定的间隔时间过长时，会导致喷嘴中残留的化学品与空气接触后形成氧化物结晶，进而影响光刻质量；(3)喷嘴长期从储液罐中抽取化学品，可能会导致储液罐内产生细小气泡，产生的气泡在光刻工艺过程中可能形成缺陷，影响产品良率；(4)若过滤装置损坏或未能有效过滤掉细小颗粒，残留的颗粒在光刻工艺中可能会形成新的缺陷，影响产品的质量和可靠性。
3、因此，目前寻求一种新型的化学品供应方式，以减少非工艺期间的化学品消耗，提高工艺的稳定性，减少储液罐中气泡的产生，并确保过滤装置的有效性，从而提高光刻工艺的整体性能和产品的质量。
技术实现思路
1、本专利技术的目的在于解决上述技术问题，提供一种化学品供应系统及控制方法，减少了非工艺期间的化学品消耗和储液罐中气泡的产生，提高了工艺的稳定性，并确保过滤装置的有效性，进而提高了光刻工艺的整体性能和产品
2、为实现上述目的，本专利技术采用的技术方案是：
3、一种化学品供应系统，包括存储装置、第一过滤装置、喷洒装置、第二过滤装置和控制终端；
4、存储装置中存储有化学品，存储装置的化学品出口端与喷洒装置的化学品入口端通过第一管路连通，以向喷洒装置供给化学品；
5、第一过滤装置设置在存储装置中或第一管路中；
6、喷洒装置用于喷洒化学品，包括化学品腔室、第一阀门和喷嘴；第一阀门设置在化学品腔室内部；第一阀门关闭时，将化学品腔室分隔为第一腔室和第二腔室，第一阀门打开时，第一腔室和第二腔室连通；喷嘴与第二腔室连通；
7、喷洒装置的化学品入口端和化学品出口端均位于第一腔室内，且喷洒装置的化学品出口端设置有第二阀门；
8、喷洒装置的化学品出口端与存储装置的化学品入口端通过第二管路连通，以将化学品腔室中的化学品回收至存储装置；
9、第二过滤装置设置在第二管路中；
10、控制终端与第一阀门、第二阀门均通信连接，用于光刻/显影工艺运行时，控制第一阀门打开、第二阀门关闭，以及，在光刻/显影工艺停止运行时，控制第一阀门关闭、第二阀门打开。
11、本专利技术一些实施例中，进一步包括清洗装置；
12、清洗装置中存储有清洗液，清洗装置的清洗液出口端与喷洒装置的清洗液入口端连接，以向喷洒装置供给清洗液；
13、喷洒装置的清洗液入口端位于第二腔室内，且喷洒装置的清洗液入口端设置有第三阀门；
14、控制终端与清洗装置、第三阀门均通信连接，用于在光刻/显影工艺运行时，控制清洗装置和第三阀门关闭，以及，在光刻/显影工艺停止运行时，控制清洗装置启动、第三阀门打开。
15、本专利技术一些实施例中，清洗液为纯水或ok73溶液。
16、本专利技术一些实施例中，进一步包括清洗装置干燥装置；
17、干燥装置中存储有干燥气体，干燥装置的气体出口端与喷洒装置的气体入口端连通，以向喷洒装置供给干燥气体；
18、喷洒装置的气体入口端位于第二腔室内，且喷洒装置的气体入口端设置有第四阀门；
19、控制终端与干燥装置、第四阀门均通信连接，用于在光刻/显影工艺准备运行时，控制干燥装置启动、第四阀门打开。
20、本专利技术一些实施例中，干燥气体为氮气。
21、本专利技术一些实施例中，进一步包括第一泵和第二泵；
22、第一泵设置在存储装置、第一过滤装置或第一管路中，用于从存储装置中抽取化学品并输送至喷洒装置；
23、第二泵设置在第二过滤装置或者第二管路中，用于从第一腔室中抽取化学品，并输送至存储装置。
24、本专利技术一些实施例中，存储装置包括第一化学品存储区和第二化学品存储区；
25、第一化学品存储区与厂务系统连接，用于存储厂务系统配制的化学品；
26、第一化学品存储区和第二化学品存储区之间通过第三管路连通，第一过滤装置设置在第三管路中；
27、第二化学品存储区与喷洒装置分别通过第一管路和第二管路连通，用于存储经第一过滤装置过滤后的化学品，向喷洒装置直接供给化学品，以及，接收由喷洒装置中回收的化学品。
28、本专利技术一些实施例进一步提供一种化学品供应控制方法，包括以下步骤：
29、光刻/显影工艺运行过程中，控制终端控制第一阀门打开，第二阀门关闭，存储装置中的化学品经第一过滤装置过滤后，通过第一管路供给至喷洒装置，喷洒装置向半导体衬底喷洒化学品；
30、光刻/显影工艺停止运行时，存储装置停止向喷洒装置供给化学品；控制终端控制第一阀门关闭，第二阀门打开，第一腔室中化学品通过第二管路回收至存储装置，在第二管路中经第二过滤装置过滤。
31、本专利技术一些实施例中，进一步包括以下步骤：
32、光刻/显影工艺停止运行时，控制终端控制第一阀门关闭后，控制第三阀门打开，并控制清洗装置启动；清洗装置按照预定时间向第二腔室供给清洗液，对第二腔室和与第二腔室连通的喷嘴进行清洗。
33、本专利技术一些实施例中，进一步包括以下步骤：
34、光刻/显影工艺准备运行时，控制终端控制清洗装置停止，第二阀门和第三阀门关闭，干燥装置和第四阀门打开，干燥装置向第二腔室和与第二腔室连通的喷嘴供给干燥气体，以去除第二腔室和喷嘴中的水汽。
35、本专利技术的有益效果在于：
36、1、本专利技术通过在喷洒装置和存储装置之间设置第二管路，实现了对化学品腔室中的化学品的再循环回收利用，减少了化学品的消耗，降低了半导体产品的生产成本；
37、2、本专利技术通过在第二管路中设置第二过滤装置，实现了进一步过滤化学品中的气泡和细小颗粒，改善了工艺质量，提高了供应系统的稳定性和可靠性；
38、3、本专利技术通过设置清洗装置，在工艺未运行时对喷洒装置进行定期清洗，避免了喷嘴长期暴露在空气中产生结晶，影响光刻/显影工艺的质量；
39、4、本专利技术通过设置干燥装置，在清洗后对化学品腔室和喷嘴进行干燥处理，能够及时去除腔室和喷嘴中的水汽，防止水汽引起的腐蚀或化学反应；
40、5、本专利技术通过改进喷洒装置的结构，在化学品腔室内设置多个阀门，实现了精确控制化学品的供给和回收，以及各工艺阶段化学品的流向，进一步减少了化学品的浪费；
41、6、本专利技术通过控制终端本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种化学品供应系统，其特征在于，包括存储装置、第一过滤装置、喷洒装置、第二过滤装置和控制终端；
2.根据权利要求1所述的化学品喷涂清洗装置，其特征在于，进一步包括清洗装置；
3.根据权利要求2所述的化学品喷涂清洗装置，其特征在于，所述清洗液为纯水或OK73溶液。
4.根据权利要求2或3所述的化学品喷涂清洗装置，其特征在于，进一步包括清洗装置干燥装置；
5.根据权利要求4所述的化学品喷涂清洗装置，其特征在于，所述干燥气体为氮气。
6.根据权利要求1所述的化学品喷涂清洗装置，其特征在于，进一步包括第一泵和第二泵；
7.根据权利要求1所述的化学品喷涂清洗装置，其特征在于，所述存储装置包括第一化学品存储区和第二化学品存储区；
8.一种化学品供应控制方法，其特征在于，用于控制权利要求1-7任意一项所述的化学品喷涂系统，包括以下步骤：
9.根据权利要求8所述的化学品供应控制方法，其特征在于，进一步包括以下步骤：
10.根据权利要求9所述的化学品供应控制方法，其特征在于，进一步包括以
...【技术特征摘要】
1.一种化学品供应系统，其特征在于，包括存储装置、第一过滤装置、喷洒装置、第二过滤装置和控制终端；
2.根据权利要求1所述的化学品喷涂清洗装置，其特征在于，进一步包括清洗装置；
3.根据权利要求2所述的化学品喷涂清洗装置，其特征在于，所述清洗液为纯水或ok73溶液。
4.根据权利要求2或3所述的化学品喷涂清洗装置，其特征在于，进一步包括清洗装置干燥装置；
5.根据权利要求4所述的化学品喷涂清洗装置，其特征在于，所述干燥气体为氮气。
6.根...
【专利技术属性】
技术研发人员：陈呈，胡翔，邱杰振，
申请(专利权)人：物元半导体技术青岛有限公司，
类型：发明
国别省市：
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