一种化学品供应系统及控制方法技术方案

本发明专利技术设计一种化学品供应系统及控制方法，该系统包括：存储装置、喷洒装置和控制终端；其中，存储装置分别通过第一管路、第二管路和喷洒装置连通，以向喷洒装置供给或回收化学品；第一管路和第二管路中均设有过滤装置；喷洒装置包括化学品腔室、第一阀门、第二阀门和喷嘴；第一阀门设置在化学品腔室内；第一阀门关闭时，将化学品腔室分隔为第一腔室和第二腔室；第二阀门设置在第一腔腔室与第二管路的连接处；控制终端与第一阀门、第二阀门均连接，以控制阀门的开关。本发明专利技术通过回收喷洒装置中的化学品减少了非工艺期间的化学品消耗，同时，通过设置冗余的过滤装置确保了过滤的有效性，提高了光刻/显影工艺的稳定性和产品的质量。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于半导体生产，尤其涉及一种化学品供应系统及控制方法。

技术介绍

1、在现有的光刻涂胶显影机台中，化学品供应是实现光刻工艺和显影工艺的关键组成部分。现有的化学品供应方式通常采用pcs泵，在恒定压力下推动化学品从过滤器通过管道输送至储液罐，然后从储液罐中抽取化学品，并通过喷嘴喷出以供光刻工艺使用。

2、然而，现有的化学品供应方式主要存在以下几个问题：(1)在光刻机台不进行光刻工艺操作时，仍需周期性地运行模拟工艺，以保持管路畅通，避免堵塞和新缺陷的生成，这导致了在非工艺期间产生不必要的化学品消耗，增加了半导体产品的生产成本；(2)光刻工艺设定的间隔时间过长时，会导致喷嘴中残留的化学品与空气接触后形成氧化物结晶，进而影响光刻质量；(3)喷嘴长期从储液罐中抽取化学品，可能会导致储液罐内产生细小气泡，产生的气泡在光刻工艺过程中可能形成缺陷，影响产品良率；(4)若过滤装置损坏或未能有效过滤掉细小颗粒，残留的颗粒在光刻工艺中可能会形成新的缺陷，影响产品的质量和可靠性。

3、因此，目前寻求一种新型的化学品供应方式，以减少非工艺期间的化学品本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种化学品供应系统，其特征在于，包括存储装置、第一过滤装置、喷洒装置、第二过滤装置和控制终端；

2.根据权利要求1所述的化学品喷涂清洗装置，其特征在于，进一步包括清洗装置；

3.根据权利要求2所述的化学品喷涂清洗装置，其特征在于，所述清洗液为纯水或OK73溶液。

4.根据权利要求2或3所述的化学品喷涂清洗装置，其特征在于，进一步包括清洗装置干燥装置；

5.根据权利要求4所述的化学品喷涂清洗装置，其特征在于，所述干燥气体为氮气。

6.根据权利要求1所述的化学品喷涂清洗装置，其特征在于，进一步包括第一泵和第二泵；

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【技术特征摘要】

1.一种化学品供应系统，其特征在于，包括存储装置、第一过滤装置、喷洒装置、第二过滤装置和控制终端；

2.根据权利要求1所述的化学品喷涂清洗装置，其特征在于，进一步包括清洗装置；

3.根据权利要求2所述的化学品喷涂清洗装置，其特征在于，所述清洗液为纯水或ok73溶液。

4.根据权利要求2或3所述的化学品喷涂清洗装置，其特征在于，进一步包括清洗装置干燥装置；

5.根据权利要求4所述的化学品喷涂清洗装置，其特征在于，所述干燥气体为氮气。

6.根...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈呈，胡翔，邱杰振，
申请(专利权)人：物元半导体技术青岛有限公司，
类型：发明
国别省市：