一种掩膜图形数据检测结构及其测试芯片制造技术

本技术涉及一种掩膜图形数据检测结构，其中，掩膜图形数据检测结构包括至少两个检测单元；检测单元设置有目标图层的检测项的原始图形数据，且检测单元之间相互独立；检测单元，用于基于目标图层的检测项的原始图形数据，对目标图层的掩膜图形数据中检测项进行检测。本技术针对JDV种后段各层需要检查的重要检测项，为每个检测项设计了对应的检测单元，并实现了在一个掩膜图形数据检测结构中可以检查多个目标图层、多个检测项，极大地简化了做后段JDV检测地流程，降低时间成本，提高效率。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及芯片测试领域，特别是涉及一种掩膜图形数据检测结构及其测试芯片。

技术介绍

1、jdv(job deck view，掩膜图形数据)是版图数据传到半导体制造厂后，通过制造厂返回的图形数据，jdv检查是将此图形与gds(graphic data system，原始图形数据)对比，进行图形数据的检测。jdv检查主要有如下几项内容：层是否遗漏或者使用错误；检查层的布尔运算是否正确；图形的尺寸和变化趋势是否与gds一致等，例如对于半导体工艺流程中beol(back end of line，后段)的金属布线层来说，图形需要检查的项有宽度，间距等，对于通孔层来说，需要检查的项有尺寸，距离，包围距离等。

2、现有技术中，jdv检查首先需要确定要检查的层和项，然后根据不同项挑选对应结构做检查清单，在芯片gds中再提取出结构的坐标，来确定结构在jdv中的位置。由于需要看图形的变化趋势，所以检查每个项时通常需要多个结构来减小误差，制作检查清单的过程比较麻烦也比较耗时。jdv检查的过程中，检查每个项都需要对多个结构进行定位和对比，这个过程会重复进行相似的步骤，本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种掩膜图形数据检测结构，其特征在于，所述掩膜图形数据检测结构包括至少两个检测单元；所述检测单元设置有目标图层的检测项的原始图形数据，且所述检测单元之间相互独立；所述检测单元，用于基于目标图层的检测项的原始图形数据，对目标图层的掩膜图形数据中所述检测项进行检测。

2.根据权利要求1所述的掩膜图形数据检测结构，其特征在于，所述检测单元包括第一检测单元和/或第二检测单元；所述目标图层包括金属布线层和/或通孔层；

3.根据权利要求2所述的掩膜图形数据检测结构，其特征在于，所述金属布线层的检测项包括掩膜极性、方向、宽度、线与线间距离、端对线距离、端对端距离和中心距离。...

【技术特征摘要】

1.一种掩膜图形数据检测结构，其特征在于，所述掩膜图形数据检测结构包括至少两个检测单元；所述检测单元设置有目标图层的检测项的原始图形数据，且所述检测单元之间相互独立；所述检测单元，用于基于目标图层的检测项的原始图形数据，对目标图层的掩膜图形数据中所述检测项进行检测。

2.根据权利要求1所述的掩膜图形数据检测结构，其特征在于，所述检测单元包括第一检测单元和/或第二检测单元；所述目标图层包括金属布线层和/或通孔层；

3.根据权利要求2所述的掩膜图形数据检测结构，其特征在于，所述金属布线层的检测项包括掩膜极性、方向、宽度、线与线间距离、端对线距离、端对端距离和中心距离。

4.根据权利要求2所述的掩膜图形数据检测结构，其特征在于，所述通孔层的检测项包括掩膜极性、尺寸、距离、中心距离、包围距离和偏移。

5.根据权利要求3所述的掩膜图形数据检测结构，其特征在于，所述掩膜图形数据检测结构包括七种第一检测单元，分别用于对所述金属布线层的端对端距离检测项、端对线距离检测项、中心距离检测项、线与线间距离检测项、宽度检测...

【专利技术属性】
技术研发人员：岳栋，翟志昊，鲁海洋，方益，
申请(专利权)人：杭州广立微电子股份有限公司，
类型：新型
国别省市：