一种多晶硅还原炉的底盘出气结构制造技术

本技术涉及多晶硅生产技术领域，尤其涉及一种多晶硅还原炉的底盘出气结构。主要技术方案为：一种多晶硅还原炉的底盘出气结构，包括:底盘、出气管、汇集结构和尾气总管；底盘上具有多个出气孔；多个出气孔以圆形阵列分布；出气管的输入端与出气孔连通；出气管为多个；多个出气管与多个出气孔一一对应设置；出气管的结构相同；汇集结构与多个出气管的下端分别连接；汇集结构位于出气孔的下方；汇集结构与多个出气孔的距离相同；尾气总管的一端与汇集结构连接；尾气总管通过汇集结构与多个出气管分别连通。采用本技术能够使多个出气孔的排气量相同，进而使还原炉内气场均匀，提高还原炉内反应的稳定性，提高硅棒品质和单炉产量。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及多晶硅生产，尤其涉及一种多晶硅还原炉的底盘出气结构。

技术介绍

1、还原炉是生产多晶硅的关键设备，还原炉主要由底盘和钟罩组成。底盘上设置有用于导电及承载硅芯的电极组件、有向还原炉内输送物料的喷嘴、有排出炉内反应后气体的出气孔。随着还原炉生产棒数的不断增加，底盘的直径也在不断增大，同时出气量也在同步增加。为了增加出气量，现有技术中大多采用底盘外圈设置多个出气孔，多个出气孔竖直向下与底盘正下方的尾气环管直接相连，尾气环管与尾气总管直接相连。由于每个出气孔至尾气总管的管道长度不同，导致每个出气孔中尾气的流通阻力不同，靠近尾气总管流通方向的出气孔的气体流通更快，使得底盘上每个出气孔的气体流量不完全一致，进而导致还原炉内局部气场不均匀，影响硅棒的品质和单炉产量。而且，流量小的出气孔流速低，出气孔的内壁容易结硅块，不仅会进一步影响气场分布，而且会增加检修时间，降低还原炉生产效率。

技术实现思路

1、有鉴于此，本技术提供一种多晶硅还原炉的底盘出气结构，主要目的在于使多个出气孔的排气量相同，进而使还原炉内气场均匀，本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种多晶硅还原炉的底盘出气结构，其特征在于，包括:底盘、出气管、汇集结构和尾气总管；

2.根据权利要求1所述的多晶硅还原炉的底盘出气结构，其特征在于，

3.根据权利要求2所述的多晶硅还原炉的底盘出气结构，其特征在于，

4.根据权利要求3所述的多晶硅还原炉的底盘出气结构，其特征在于，

5.根据权利要求4所述的多晶硅还原炉的底盘出气结构，其特征在于，

6.根据权利要求1所述的多晶硅还原炉的底盘出气结构，其特征在于，

【技术特征摘要】

1.一种多晶硅还原炉的底盘出气结构，其特征在于，包括:底盘、出气管、汇集结构和尾气总管；

2.根据权利要求1所述的多晶硅还原炉的底盘出气结构，其特征在于，

3.根据权利要求2所述的多晶硅还原炉的底盘出气结构，其特征在...

【专利技术属性】
技术研发人员：郑海洪，杨泽天，张华，李强，叶兴建，
申请(专利权)人：新疆大全新能源股份有限公司，
类型：新型
国别省市：