清洁基站和清洁系统技术方案

技术编号:43376176 阅读:25 留言:0更新日期:2024-11-19 17:54
本公开涉及清洁设备技术领域,具体是关于一种清洁基站及清洁系统,所述清洁基站用于对清洁主机进行维护并充电,所述清洁基站包括第一清洗模组和坡道板,第一清洗模组设于所述清洁基站的底部,用于对所述清洁主机上的第一清洁构件进行清洗;坡道板设于所述清洁基站的底部,所述坡道板上设有主机行走区,所述清洁主机在沿着所述主机行走区的延伸方向进入所述清洁基站或者离开所述清洁基站时,所述清洁主机与所述主机行走区相接触;其中,所述主机行走区设置有凸起部,所述凸起部用于在所述清洁主机进入所述清洁基站的过程中抬升所述清洁主机的高度以使所述第一清洁构件的至少部分越过所述第一清洗模组的上方。

【技术实现步骤摘要】

本公开涉及清洁设备,具体而言,涉及一种清洁基站和清洁系统


技术介绍

1、随着技术的发展和进步,诸如扫地机器人等清洁设备的应用日益广泛。清洁基站作为扫地机器人的配套设备,用于对扫地机器人的拖布进行自动清洗,如此能够提高扫地机器人的自动化程度。在扫地机器人完成清扫工作时,需要回归到清洁基站进行拖布的清洗。相关技术中,在扫地机器人回归至清洁基站时,清洁基站中的部件可能会阻挡扫地机器人,从而导致扫地机器人无法顺利归位。

2、需要说明的是,在上述
技术介绍
部分公开的信息仅用于加强对本公开的背景的理解,因此可以包括不构成对本领域普通技术人员已知的现有技术的信息。


技术实现思路

1、本公开的目的在于提供一种清洁基站和清洁系统,进而至少一定程度上解决清洁主机无法顺利归位的问题。

2、根据本公开的一个方面,提供一种清洁基站,,所述清洁基站用于对清洁主机进行维护并充电,所述清洁基站包括:

3、第一清洗模组,设于所述清洁基站的底部,用于对所述清洁主机上的第一清洁构件进行清洗;

4、坡本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种清洁基站,其特征在于,所述清洁基站用于对清洁主机进行维护并充电,所述清洁基站包括:

2.如权利要求1所述的清洁基站,其特征在于,所述基站主体上设置有用于容置清洁主机的容置腔,所述容置腔具有开口,所述坡道板设于所述基站主体设置开口的一侧,所述开口的底部设置有阻挡部,所述阻挡部高于所述坡道板。

3.如权利要求1所述的清洁基站,其特征在于,所述清洁基站还包括:

4.如权利要求3所述的清洁基站,其特征在于,所述清洁基站还包括:

5.如权利要求4所述的清洁基站,其特征在于,所述第一清洗模组和所述第二清洗模组中的至少一个设于所述基站主体。...

【技术特征摘要】

1.一种清洁基站,其特征在于,所述清洁基站用于对清洁主机进行维护并充电,所述清洁基站包括:

2.如权利要求1所述的清洁基站,其特征在于,所述基站主体上设置有用于容置清洁主机的容置腔,所述容置腔具有开口,所述坡道板设于所述基站主体设置开口的一侧,所述开口的底部设置有阻挡部,所述阻挡部高于所述坡道板。

3.如权利要求1所述的清洁基站,其特征在于,所述清洁基站还包括:

4.如权利要求3所述的清洁基站,其特征在于,所述清洁基站还包括:

5.如权利要求4所述的清洁基站,其特征在于,所述第一清洗模组和所述第二清洗模组中的至少一个设于所述基站主体。

6.如权利要求5所述的清洁基站,其特征在于,所述第一清洗模组包括支座和清洗盘,所述支座容置固接于所述清洗盘;

7.如权利要求1所述的清洁基站,其特征在于,所述凸起部的边缘设置有凸边,且所述向所述凸起部背离所述坡道板的方向凸起。

8.如权利要求7所述的清洁基站,其特征在于,所述坡道...

【专利技术属性】
技术研发人员:成盼米长魏贤志罗聪
申请(专利权)人:北京石头世纪科技股份有限公司
类型:新型
国别省市:

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1