【技术实现步骤摘要】
本技术涉及研磨抛光，尤其涉及一种机械密封件平面研磨抛光机。
技术介绍
1、机械密封件属于精密、结构较为复杂的机械基础元件之一，是各种泵类、反应合成釜、透平压缩机、潜水电机等设备的关键部件，为了保证其密封效果，在生产加工时，需要对机械密封件平面进行研磨抛光。
2、密封圈作为一种常见的机械密封件，其尺寸根据具体的需求会存在较大差异，对于大型密封圈，其研磨抛光可逐个进行，但对于小型密封圈，逐个进行研磨抛光操作难度大，且效率低下，故对于小型密封圈，往往采用砂抛机进行研磨抛光，而现有砂抛机在进行作业时，需要将若干小型密封圈和抛光砂混合在一起，在抛光结束后，需要工人将小型密封圈从抛光砂中挑选出来，操作较为费力，鉴于此，我们提出一种机械密封件平面研磨抛光机。
技术实现思路
1、本技术的目的在于克服现有技术的不足，适应现实需要，提供一种机械密封件平面研磨抛光机，以解决当前现有研磨抛光机在抛光小型密封圈后需要人工进行分选较为费力的技术问题。
2、为了实现本技术的目的，本技术所采用的技...
【技术保护点】
1.一种机械密封件平面研磨抛光机，包括砂抛机(1)，所述砂抛机(1)包括钢架(101)，所述钢架(101)上设有盛放罐(102)，所述盛放罐(102)上穿设有驱动机构(103)，所述盛放罐(102)底部排料端设有阀门(104)；其特征在于，还包括筛分机构(2)，所述筛分机构(2)设于所述盛放罐(102)底部；
2.如权利要求1所述的机械密封件平面研磨抛光机，其特征在于，所述筛盘(202)两侧外壁对称设有滑条(2021)，所述筛分仓(201)两侧内壁开设有适配于所述滑条(2021)的滑槽(2011)，所述滑条(2021)与所述滑槽(2011)限位滑动。>
3.如权利要...
【技术特征摘要】
1.一种机械密封件平面研磨抛光机，包括砂抛机(1)，所述砂抛机(1)包括钢架(101)，所述钢架(101)上设有盛放罐(102)，所述盛放罐(102)上穿设有驱动机构(103)，所述盛放罐(102)底部排料端设有阀门(104)；其特征在于，还包括筛分机构(2)，所述筛分机构(2)设于所述盛放罐(102)底部；
2.如权利要求1所述的机械密封件平面研磨抛光机，其特征在于，所述筛盘(202)两侧外壁对称设有滑条(2021)，所述筛分仓(201)两侧内壁开设有适配于所述滑条(2021)的滑槽(2011)，所述滑条(2021)与所述滑槽(2011)限位滑动。
3.如权利要求2所述的机械密封件平面研磨抛光机，其特征在于，所述滑条(2021)两端呈向所述滑条(2021)两端底部倾斜的斜面状，且所述滑条(2021)两端开设有分别连通所述滑条(2021)两端斜面的进尘孔(2022)。
4.如权利要求3所述的机械密封件平面研磨抛光机，其特征在于，所述进...
【专利技术属性】
技术研发人员：陈致豪，
申请(专利权)人：成都庄辰精密工具有限公司，
类型：新型
国别省市：
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