【技术实现步骤摘要】
本揭示涉及一种光学元件、成像镜头与电子装置，特别是一种适用于电子装置的光学元件和成像镜头。
技术介绍
1、随着半导体工艺技术更加精进，使得电子感光元件性能有所提升，像素可达到更微小的尺寸，因此，具备高成像品质的光学镜头俨然成为不可或缺的一环。此外，随着科技日新月异，配备光学镜头的手机装置的应用范围更加广泛，对于光学镜头的要求也是更加多样化。
2、近年来日趋流行以移动装置的微型光学镜头进行摄影拍照，但移动装置常因在户外使用而受到强烈阳光光线影响，使得光学镜头被强烈非成像杂散光影响，特别是非成像光线容易在光学镜头内反射而大幅降低成像品质。
3、习知技术在光学镜头中的不透明光学元件表面进行涂墨、喷砂与镀膜等技术，以达到降低反射率与消除杂散光线效果，虽可提升光学成像品质，但其效果仍不足以消除高强度杂散光线。再者，在非移动装置光学镜头领域仍具有其他降低反射率技术，其通过制造膜层表面以产生具多孔洞的微结构，然其结构支撑性不足，并容易因外力导致膜层变形而大幅降低抗反射效果。因此，如何改良光学镜头内部零件的结构来减弱非成像光线的...
【技术保护点】
1.一种光学元件，其特征在于，包含：
2.根据权利要求1所述的光学元件，其特征在于，所述扫描式电子显微镜对所述低反射层的拍摄面积为4μm2至130μm2。
3.根据权利要求2所述的光学元件，其特征在于，所述影像中灰阶值为100至150的像素点数量为G1015，所述影像中灰阶值为200至250的像素点数量为G2025，其满足下列条件：
4.根据权利要求1所述的光学元件，其特征在于，所述纳米颗粒的平均粒径为其满足下列条件：
5.根据权利要求1所述的光学元件，其特征在于，所述低反射层的厚度具有高低起伏，且所述低反射层的厚度的高...
【技术特征摘要】
1.一种光学元件，其特征在于，包含：
2.根据权利要求1所述的光学元件，其特征在于，所述扫描式电子显微镜对所述低反射层的拍摄面积为4μm2至130μm2。
3.根据权利要求2所述的光学元件，其特征在于，所述影像中灰阶值为100至150的像素点数量为g1015，所述影像中灰阶值为200至250的像素点数量为g2025，其满足下列条件：
4.根据权利要求1所述的光学元件，其特征在于，所述纳米颗粒的平均粒径为其满足下列条件：
5.根据权利要求1所述的光学元件，其特征在于，所述低反射层的厚度具有高低起伏，且所述低反射层的厚度的高低落差为d，其满足下列条件：
6.根据权利要求5所述的光学元件，其特征在于，所述低反射层的厚度的高低落差为d，其满足下列条件：
7.根据权利要求5所述的光学元件，其特征在于，所述低反射层还包含一中介层，所述中介层设置于所述基材与所述纳米颗粒之间，且所述中介层的厚度具有高低起伏。
8.根据权利要求1所述的光学元件，其特征在于，所述基材的所述表面的水接触角为θ，其满足下列条件：
9.根据权利要求8所述的光学元件，其特征在于，所述低反射层还包含一疏水层，所述疏水层相较所述纳米颗粒远离所述基材，所述疏水层的厚度为t，其满足下列条件：
10.根据权利要求9所述的光学元件，其特征在于，还包含一粘着剂，其中所述粘着剂设置于所述基材的所述表面，且所述粘着剂相较所述疏水层远离所述基材。
11.根据权利要求1所述的光学元件，其特征在于，所述纳米颗粒的主要成分为sio2、tio2和al2o3三者之中的其中一者。
12.一种光学元件，其特征在于，包含：
13.根据权利要求12所述的光学元件，其特征在于，所述纳米颗粒的平均粒径为其满足下列条件：
14.根据权利...
【专利技术属性】
技术研发人员：许世融，范丞纬，蔡温祐，周明达，
申请(专利权)人：大立光电股份有限公司，
类型：新型
国别省市：
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