一种药剂清洗箱制造技术

技术编号:43326110 阅读:21 留言:0更新日期:2024-11-15 20:24
本发明专利技术涉及晶圆片清洗设备生产技术领域,尤其涉及一种药剂清洗箱;包括主箱体、管道组件、控温组件及副箱体;主箱体包括箱本体、支撑体及载料件,箱本体设有第一内腔,支撑体设于第一内腔内,支撑体设有第二内腔,第二内腔与第一内腔连通,载料件位于第二内腔内,副箱体与主箱体围设成第三内腔;控温组件包括加热体、冷却体及温控件,冷却体设于支撑体,温控件设于箱本体,加热体的两端连通第三内腔和第一内腔;第一内腔用于容置外界化学药剂,加热体设于主箱体外,通过将化学剂引出主箱体外再对化学药剂加热,实现对化学药剂温度的控制,从而实现降低能耗,延长耗材使用周期的目的,从而实现降低能耗,延长耗材使用周期的目的,降低生产成本。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及晶圆片清洗设备生产,尤其涉及一种药剂清洗箱


技术介绍

1、晶圆片在生产过程中需要浸入化学药剂液内进行表面清洗,通常将若干个晶圆片整齐摆放在料框内,再将料框浸入化学药剂液中,清洗过程中对药液的温度要求较高,方能确保晶圆片的清洗质量及清洗效率,而现有的清洗箱对药液温度的控制具有成本高、效率低的问题,导致生产成本高,不能满足生产要求。


技术实现思路

1、为了克服现有技术中存在的高耗能的缺点,本专利技术的目的在于提供一种药剂清洗箱,实现低耗能,提高生产效率,降低生产成本的目的。

2、为实现上述目的,本专利技术的技术方案为:

3、一种药剂清洗箱,包括主箱体、管道组件、控温组件及副箱体;

4、所述主箱体包括箱本体、支撑体及载料件,所述箱本体设有第一内腔,所述支撑体设于第一内腔内,所述支撑体设有第二内腔,所述第二内腔与第一内腔连通,所述载料件位于第二内腔内,所述副箱体与所述主箱体围设成第三内腔;

5、所述控温组件包括加热体、冷却体及温控件,所述冷却体绕设支撑体本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种药剂清洗箱,其特征在于:包括主箱体(1)、管道组件(2)、控温组件及副箱体(4);

2.根据权利要求1所述的药剂清洗箱,其特征在于:所述支撑体(12)包括上固定件(121)、下固定件(122)及若干个杆体(123),每个杆体(123)的两端分别与上固定件(121)及下固定件(122)连接,相邻两个杆体(123)间距设置。

3.根据权利要求2所述的药剂清洗箱,其特征在于:每个杆体(123)均设有若干个第一缺口(1231),若干个第一缺口(1231)沿杆体(123)的长度方向设置,相邻两个第一缺口(1231)间距设置,所述第一缺口(1231)朝向箱本体(11)...

【技术特征摘要】

1.一种药剂清洗箱,其特征在于:包括主箱体(1)、管道组件(2)、控温组件及副箱体(4);

2.根据权利要求1所述的药剂清洗箱,其特征在于:所述支撑体(12)包括上固定件(121)、下固定件(122)及若干个杆体(123),每个杆体(123)的两端分别与上固定件(121)及下固定件(122)连接,相邻两个杆体(123)间距设置。

3.根据权利要求2所述的药剂清洗箱,其特征在于:每个杆体(123)均设有若干个第一缺口(1231),若干个第一缺口(1231)沿杆体(123)的长度方向设置,相邻两个第一缺口(1231)间距设置,所述第一缺口(1231)朝向箱本体(11)设置,所述冷却体(32)嵌于第一缺口(1231)内。

4.根据权利要求1所述的药剂清洗箱,其特征在于:所述药剂清洗箱还包括升降组件(5),所述升降组件(5)驱动载料件(13)运动。

5.根据权利要求4所述的药剂清...

【专利技术属性】
技术研发人员:李成姚禄华邱立阳赵江风赵燕飞
申请(专利权)人:东莞市鼎力自动化科技有限公司
类型:发明
国别省市:

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