含萘二甲酰亚胺类聚合物及其制备方法和硬掩膜组合物及其形成图案的方法技术

本发明专利技术属于光刻技术领域，具体涉及一种含萘二甲酰亚胺类聚合物及其制备方法和硬掩膜组合物及其形成图案的方法。所述含萘二甲酰亚胺类聚合物具有式(1)所示结构。所述硬掩模组合物含有含萘二甲酰亚胺类聚合物、交联剂、催化剂、表面活性剂和溶剂。本发明专利技术设计并合成具有特定结构的含萘二甲酰亚胺类聚合物，一方面可以提高含有该聚合物的硬掩模组合物的耐刻蚀性能，另一方面也能提高硬掩模组合物的耐热性能，为超精细光刻图案提供一种解决的思路。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于光刻，具体涉及一种含萘二甲酰亚胺类聚合物及其制备方法和硬掩膜组合物及其形成图案的方法。

技术介绍

1、近年来，随着半导体器件的高集成化和高速化，对光刻图案的精度尺寸提出更高的要求。为实现精度尺寸达到数纳米至数十纳米的超精细化图案，一方面是光刻用光源的波长向短波化方向发展，另一方面是通过逐渐减薄光致抗蚀剂膜的厚度来防止精细化的光致抗蚀剂图案溃散。然而，减薄的光致抗蚀剂膜难以提供足够耐刻蚀性来实现图案的转移。因此，为了形成更加精细的刻蚀图案，需要在光致抗蚀剂与材料层之间形成耐刻蚀强的无机物膜或有机物膜的中间层，该中间层称为“抗蚀剂下层膜”或“硬掩膜”。

2、近年来，由于化学气相沉积法形成硬掩膜层的制备方法较复杂、成膜均匀性差且启动设备投资巨大，利用旋涂硬掩膜组合物逐渐替代用化学气相沉积形成的硬掩膜。目前旋涂硬掩膜组合物多通过采用高碳含量的聚合物来提高耐刻蚀性能，但是高碳含量的聚合物存在耐热性较差的问题，不利于精细化图案的生成。因此，研究开发一种兼具良好的耐热性能和耐刻蚀性能的旋涂硬掩膜组合物，以形成更加精细的刻蚀图案，具有十分重要的意本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种含萘二甲酰亚胺类聚合物，其特征在于，所述含萘二甲酰亚胺类聚合物具有式(1)所示结构：

2.根据权利要求1所述的含萘二甲酰亚胺类聚合物，其特征在于，所述含萘二甲酰亚胺类聚合物的重均分子量为2000～15000Da，多分散度PDI为1.5～3.5。

3.根据权利要求1或2所述的含萘二甲酰亚胺类聚合物的制备方法，其特征在于，该方法包括：将具有式(2)所示结构的含有萘二甲酰亚胺类取代的苯酚和/或苯酚衍生物与醛化合物和/或二醇化合物进行缩聚反应，所得产物即为含萘二甲酰亚胺类聚合物，其中，所述含有萘二甲酰亚胺类取代的苯酚衍生物为含有萘二甲酰亚胺类取代的苯酚的酚羟基上的...

【技术特征摘要】

1.一种含萘二甲酰亚胺类聚合物，其特征在于，所述含萘二甲酰亚胺类聚合物具有式(1)所示结构：

2.根据权利要求1所述的含萘二甲酰亚胺类聚合物，其特征在于，所述含萘二甲酰亚胺类聚合物的重均分子量为2000～15000da，多分散度pdi为1.5～3.5。

3.根据权利要求1或2所述的含萘二甲酰亚胺类聚合物的制备方法，其特征在于，该方法包括：将具有式(2)所示结构的含有萘二甲酰亚胺类取代的苯酚和/或苯酚衍生物与醛化合物和/或二醇化合物进行缩聚反应，所得产物即为含萘二甲酰亚胺类聚合物，其中，所述含有萘二甲酰亚胺类取代的苯酚衍生物为含有萘二甲酰亚胺类取代的苯酚的酚羟基上的氢被c1～c6的烷基取代的化合物；

4.根据权利要求3所述的含萘二甲酰亚胺类聚合物的制备方法，其特征在于，所述醛化合物为脂肪醛和/或芳香醛；

5.根据权利要求3所述的含萘二甲酰亚胺类聚合物的制备方法，其特征在于，所述含有萘二甲酰亚胺类取代的苯酚和/或苯酚衍生物与醛化合物的摩尔比为1:(0.8～2.5)。

6.根据权利要求3所述的含萘二甲酰亚胺类聚合物的制备方法，其特征在于，所述缩...

【专利技术属性】
技术研发人员：林国清，王静，毛鸿超，李禾禾，马丽丽，
申请(专利权)人：安徽恒坤新材料科技有限公司，
类型：发明
国别省市：