【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及光学系统，尤其涉及一种读数头、光栅干涉仪及位移测量系统。
技术介绍
1、目前，对光栅精密测量系统技术的定位精度与测量范围要求不断提高，特别在光刻机等高端超精密仪器产业中，对测量精度与范围的要求则更高。随着技术发展，相应的位移测量技术也衍生出了多种原理与形式：例如光栅尺、电容式测量、光栅干涉测量以及激光干涉测量等，而由于光栅干涉仪通过光栅的衍射与光的干涉原理实现位移测量，与其他位移测量技术相比，在亚纳米级测量上更具优势。
2、现有的光栅干涉测量原理，由于单个读数头只能对一个栅线方向产生多普勒效应，因此对于不同栅线方向的光栅来说，需要使用多个读数头的测量轴，但多个读数头组成的系统的测量范围会受到任意两个读数头之间的距离限制。
3、因此，现亟需提供一种可以应用于光栅干涉仪的读数头。
技术实现思路
1、本专利技术提供一种读数头、光栅干涉仪及位移测量系统，用以解决现有技术中存在的缺陷。
2、本专利技术提供一种读数头，包括：分光组件和导光组件；
...【技术保护点】
1.一种读数头，其特征在于，包括：分光组件和导光组件；
2.根据权利要求1所述的读数头，其特征在于，所述分光组件包括第一分光元件、第二分光元件、第三分光元件和第一反射元件；
3.根据权利要求2所述的读数头，其特征在于，所述导光组件包括偏振分光元件、第四分光元件、第二反射元件、第三反射元件和折光元件，所述第一反射光依次经所述第二反射元件反射、所述第四分光元件透射、所述第三反射元件反射和所述第四分光元件反射后，在第一位置射出；
4.根据权利要求3所述的读数头，其特征在于，所述第一分光元件、所述第二分光元件和所述第一反射元件在所述第一信号...
【技术特征摘要】
1.一种读数头，其特征在于，包括：分光组件和导光组件；
2.根据权利要求1所述的读数头，其特征在于，所述分光组件包括第一分光元件、第二分光元件、第三分光元件和第一反射元件；
3.根据权利要求2所述的读数头，其特征在于，所述导光组件包括偏振分光元件、第四分光元件、第二反射元件、第三反射元件和折光元件，所述第一反射光依次经所述第二反射元件反射、所述第四分光元件透射、所述第三反射元件反射和所述第四分光元件反射后，在第一位置射出；
4.根据权利要求3所述的读数头，其特征在于，所述第一分光元件、所述第二分光元件和所述第一反射元件在所述第一信号光的传输方向上贴合，所述第二分光元件分别与所述第三分光元件和所述偏振分光元件在所述第二反射光和所述第七反射光的传输路径上贴合，所述第一反射元件分别与所述第三分光元件和所述偏振分光元件在所述第三...
【专利技术属性】
技术研发人员：高磊，高立冬，孙展，
申请(专利权)人：北京华卓精科科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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