氮化镓烧结体及其制造方法技术

本发明专利技术提供与通过热压处理得到的以往的氮化镓的烧结体相比，烧结后的再氧化导致的氧含量增加得到抑制的高氮化镓的烧结体及其制造方法、以及其用途中的至少任一者。一种氮化镓的烧结体，其具有密度比烧结体内部高的表面层，并且镓相对于镓和氮的总和的原子量比超过0.5且为0.60以下。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

本公开涉及氮化镓的烧结体。

技术介绍

1、为了通过溅射法稳定地形成氮化镓膜，使用氮化镓(gan)的烧结体作为溅射靶。这样的氮化镓的烧结体例如通过热等静压(以下也称为“hip”)处理来制造。但是，hip处理不仅制造成本高，而且难以制作大型的烧结体。另一方面，热压(以下也称为“hp”)处理作为比hip处理廉价的氮化镓的烧结体的制造方法而为人所知。然而，在hp处理中氮化镓难以致密化。此外，通过hp处理得到的烧结体由于残留的金属镓、氮化镓的氧化、即烧结体的再氧化而导致烧结后的氧含量容易增加。

2、因此，迄今为止对通过hp处理制造的氮化镓的烧结体的进一步致密化和氧含量的降低进行了研究(例如，专利文献1-3)。

3、现有技术文献

4、专利文献

5、专利文献1：日本特开2012-144424号公报

6、专利文献2：日本特开2017-024970号公报

7、专利文献3：日本特开2019-001681号公报

技术实现思路

1、专利技术要解决的问题

<本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种氮化镓的烧结体，其具有密度比烧结体内部高的表面层，并且镓相对于镓和氮的总和的原子量比超过0.5且为0.60以下。

2.根据权利要求1所述的烧结体，其氧含量为0.3atm％以下。

3.根据权利要求1或2所述的烧结体，其实测密度为3.80g/cm3以上且5.50g/cm3以下。

4.根据权利要求1～3中任一项所述的烧结体，其包含金属镓。

5.一种权利要求1～4中任一项所述的烧结体的制造方法，其具有如下工序：

6.根据权利要求5所述的制造方法，其中，所述块体为氮化镓的预烧结体。

7.根据权利要求6所述的制造方法，其...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

1.一种氮化镓的烧结体，其具有密度比烧结体内部高的表面层，并且镓相对于镓和氮的总和的原子量比超过0.5且为0.60以下。

2.根据权利要求1所述的烧结体，其氧含量为0.3atm％以下。

3.根据权利要求1或2所述的烧结体，其实测密度为3.80g/cm3以上且5.50g/cm3以下。

4.根据权利要求1～3中任一项所述的烧结体，其包含金属镓。

5.一种权利要求1～4中任一项所述的烧结体的制造方法，其具有如下工序：

6.根据权利要求5所述的制造方法，其...

【专利技术属性】
技术研发人员：饭浜准也，楠濑好郎，原慎一，加纳绘梨沙，召田雅实，
申请(专利权)人：东曹株式会社，
类型：发明
国别省市：