【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及陶粒砂支撑剂生产，特别是涉及一种陶粒砂支撑剂生产用回转窑及使用方法。
技术介绍
1、传统的陶粒砂支撑剂生产在通过回转窑进行生产时，需要通过先预热然后逐渐地在温度区间为1300℃到1400℃进行煅烧，目前传统的回转窑大部分还使用天然气作为能源，通过燃烧装置利用天然气对回转窑内部加热以达到煅烧的温度，这就导致了回转窑内部的温度不是绝对的平衡，导致回转窑内部形成了不同的温带，当回转窑带动物料在窑体内部转动时，不同的温带使得煅烧程度具有一定的差异，从而使得煅烧的成品中会出现煅烧质量参差不齐的状态。
技术实现思路
1、有鉴于此，本专利技术的主要目的在于提供一种陶粒砂支撑剂生产用回转窑及使用方法。
2、专利技术采用的技术方案如下：
3、一种陶粒砂支撑剂生产用回转窑，包括：窑体，所述窑体前端为窑头罩，窑体的后端为窑尾烟箱，在窑头罩一端设置有燃烧装置，
4、所述窑体按照功能划分成至少三个区域，每个区域具有设定的温带；
5、在每一个区域设置有用于测量该区域温带均衡性的温度探头列阵；
6、控制装置，其内部设置有处理器和控制器，其中，温度探头列阵通过无线通信方式接入至处理器，处理器按照设定周期接收温度探头列阵的多个温度信号，将多个温度信号进行处理后得到对应区域的温区列阵，对比温区列阵中多个温度探头测量的温度值的差异是否在设定阈值内，若不在，则向控制器发送一个唤醒指令；
7、至少两个红外探测仪，所述红外探测仪响应于所述唤
8、跨多个连续的取样区间以得到多个连续的红外图像，通过判断多个连续的红外图像所对应的温度不均衡区域的扩散状态来决定是否通过控制器控制所述燃烧装置改变对应区域设置的烧嘴的进气量来控制该区域温度在设定区间内的均衡状态。
9、进一步地，所述控制装置内还设置有基于外部环境引起的气压变化来对窑体内部区域的气压进行自适应调节。
10、进一步地，所述窑尾烟箱一侧设置有风机，所述风机用于根据控制装置的控制以基于外部环境引起的气压变化来对窑体内部区域的气压进行自适应调节，风机距离窑尾烟箱还有一定的距离，两者之间是通过一定长度(直径1.0米左右)的烟管相连。
11、进一步地，在每一区域且沿窑体的膛壁外侧设置有若干个均匀布设的温度探头，且若干个均匀布设的温度探头将所述区域进行全覆盖。
12、进一步地，所述处理器内具有：
13、存储器，所述存储器被配置成具有以温度探头列阵的形式对应形成的存储列阵，该存储列阵用于实时对应的存储温度探头获取的温度信号，其中，所述存储列阵是以温度探头在对应区域设置的位置数据作为配置参数将所述存储器划分为若干个存储元；
14、处理矩阵，所述处理矩阵被配置成具有和所述存储元对应的若干个处理单元，且所述处理单元和所述存储元具有相同的时间基准，并将存储元与对应的所述处理单元设定成数据同步，当所述存储元接收到温度信号后，对应的处理单元加载所述温度信号进行处理后得到对应温度值；多个处理单元将得到的温度值按照设定规则组合后得到对应区域的温区列阵；
15、比对单元，连接所述处理矩阵，用于将温区矩阵中的每一个温度值与设定温度范围进行比对，以对比温区列阵中多个温度探头测量的温度值的差异是否在设定阈值内，得到比对结果；
16、执行器，连接所述比对单元，根据比对结果以调用设定规则逻辑来生成对应的唤醒指令。
17、进一步地，所述存储元与对应的所述处理单元按照如下的方法实现数据同步：
18、配置处理器中存储器和处理矩阵之间的通信关系；以及
19、配置存储器和处理矩阵之间同步站点和同步阈；
20、设定存储器和处理矩阵之间进行循环数据交换时的数据记录机制以及数据传输的数据长度；
21、配置数据同步的触发规则以及执行逻辑；
22、其中，以存储器中的每一个存储元作为起始站点，以对应的处理单元作为终止站点，通过时钟基准将对应的存储元和处理单元配置到同一同步域中，且将存储元和处理单元的数据交换设置成等时同步模式；
23、将等时同步写入至触发规则中，当存储元按照设定周期接收到温度信号时，即形成触发条件，在等时同步模式将所述温度信号按照设定的执行逻辑由起始站点同步到终止站点。
24、进一步地，通过存储器和处理矩阵内分别设置的i/o控制器来配置存储器和处理矩阵之间的通信关系。
25、进一步地，所述执行逻辑写入在处理器的gpu中。
26、进一步地，所述处理器还包括：
27、分析模块，所述分析模块用于将所述红外图像先划分为若干个图像单元，然后将每一个图像单元进行二值化转换，通过二值化转换得到对应图像单元的二值化值的集合，将二值化值的集合与设定阈值进行比对来获取对应图像单元的温度分布状态，通过将若干个图像单元得到的温度分布组合以得到图像中温度不均衡区域；
28、综合判断模块，跨多个连续的取样区间以得到多个连续的红外图像，通过判断多个连续的红外图像所对应的温度不均衡区域的扩散状态来决定是否通过控制器控制所述燃烧装置改变对应区域设置的烧嘴的进气量来控制该区域温度在设定区间内的均衡状态。
29、本专利技术还公开了一种陶粒砂支撑剂生产用回转窑的使用方法，包括上述所述的陶粒砂支撑剂生产用回转窑，使用方法包括如下步骤：
30、启动控制装置，通过控制装置控制燃烧装置进行预热，并将预热区域预热到设定的第一温度范围；
31、从窑尾烟箱处设置的加料端将陶粒砂支撑剂陆续地加入至窑体内，控制燃烧装置将烧成区域的温度值升温到第二温度范围；
32、同时通过控制装置启动回转窑的驱动装置来驱动窑体按照设定功率转动；
33、通过温度探头列阵按照设定周期实时地采集窑体表层的温度，处理器接收温度探头列阵的多个温度信号，将多个温度信号进行处理后得到对应区域的温区列阵，对比温区列阵中多个温度探头测量的温度值的差异是否在设定阈值内，若不在，则向控制器发送一个唤醒指令；
34、控制装置控制红外探测仪响应于所述唤醒指令而执行启动操作，所述启动操作以红外探测仪从休眠状态唤醒开始并且以红外探测仪获取每个区域的对应的红外图像时作为一个取样区间，并将所述红外图像输入至处理器中进行处理并分析，以判断出红外图像中温度不均衡区域；
35、跨多个连续的取样区间以得到多个连续的红外图像，通过判断多个连续的红外图像所对应的温度不均衡区域的扩散状态来决定是否通过控制器控制所述燃烧装置改变对应区域设置的烧嘴的进气量来控制该区域温度在设定区间内的均衡状态；
36、同时通过控制装置以基于外部环境引起的气压变化来对窑体内部区本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种陶粒砂支撑剂生产用回转窑，包括：窑体，所述窑体前端为窑头罩，窑体的后端为窑尾烟箱，在窑头罩一端设置有燃烧装置，其特征在于，
2.根据权利要求1所述的陶粒砂支撑剂生产用回转窑，其特征在于，所述控制装置内还设置有基于外部环境引起的气压变化来对窑体内部区域的气压进行自适应调节。
3.根据权利要求2所述的陶粒砂支撑剂生产用回转窑，其特征在于，所述窑尾烟箱一侧设置有风机，所述风机用于根据控制装置的控制以基于外部环境引起的气压变化来对窑体内部区域的气压进行自适应调节。
4.根据权利要求1所述的陶粒砂支撑剂生产用回转窑，其特征在于，在每一区域且沿窑体的膛壁外侧设置有若干个均匀布设的温度探头，且若干个均匀布设的温度探头将所述区域进行全覆盖。
5.根据权利要求1所述的陶粒砂支撑剂生产用回转窑，其特征在于，所述处理器内具有：
6.根据权利要求5所述的陶粒砂支撑剂生产用回转窑，其特征在于，所述存储元与对应的所述处理单元按照如下的方法实现数据同步：
7.根据权利要求6所述的陶粒砂支撑剂生产用回转窑，其特征在于，通过存储器和处
8.根据权利要求6所述的陶粒砂支撑剂生产用回转窑，其特征在于，所述执行逻辑写入在处理器的GPU中。
9.根据权利要求1所述的陶粒砂支撑剂生产用回转窑，其特征在于，所述处理器还包括：
10.一种陶粒砂支撑剂生产用回转窑的使用方法，包括权利要求任一项1-9所述的陶粒砂支撑剂生产用回转窑，其特征在于，使用方法包括如下步骤：
...【技术特征摘要】
1.一种陶粒砂支撑剂生产用回转窑，包括：窑体，所述窑体前端为窑头罩，窑体的后端为窑尾烟箱，在窑头罩一端设置有燃烧装置，其特征在于，
2.根据权利要求1所述的陶粒砂支撑剂生产用回转窑，其特征在于，所述控制装置内还设置有基于外部环境引起的气压变化来对窑体内部区域的气压进行自适应调节。
3.根据权利要求2所述的陶粒砂支撑剂生产用回转窑，其特征在于，所述窑尾烟箱一侧设置有风机，所述风机用于根据控制装置的控制以基于外部环境引起的气压变化来对窑体内部区域的气压进行自适应调节。
4.根据权利要求1所述的陶粒砂支撑剂生产用回转窑，其特征在于，在每一区域且沿窑体的膛壁外侧设置有若干个均匀布设的温度探头，且若干个均匀布设的温度探头将所述区域进行全覆盖。
5.根据权利要求1所...
【专利技术属性】
技术研发人员：崔海轮，齐刚，曹义平，高荣升，梁延龙，孟宪锋，
申请(专利权)人：陕西延长石油压裂材料有限公司，
类型：发明
国别省市：
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