【技术实现步骤摘要】
本技术涉及等离子设备，尤其是涉及一种等离子蚀刻机。
技术介绍
1、等离子刻蚀机，又叫等离子蚀刻机、等离子平面刻蚀机、等离子体刻蚀机、等离子表面处理仪、等离子清洗系统等。等离子刻蚀，是干法刻蚀中最常见的一种形式，其原理是暴露在电子区域的气体形成等离子体，由此产生的电离气体和释放高能电子组成的气体，从而形成了等离子或离子，电离气体原子通过电场加速时，会释放足够的力量与表面驱逐力紧紧粘合材料或蚀刻表面。
2、在pcb板生产过程中需要使用等离子刻蚀机对其进行处理，在此过程中，需要通过上料装置的上料架将pcb板运输至等离子刻蚀机的腔体内；例如一篇申请号为2019212599214的技术专利就公开了一种垂直式等离子蚀刻机的上料装置，包括底板，所述底板顶部的右侧固定连接有蚀刻机主体，所述底板顶部的左侧设置有壳体，所述壳体的右侧贯穿至蚀刻机主体的内腔，所述壳体内腔的正面和背面均设置有驱动装置，所述壳体内腔的底部开设有滑槽；该装置解决了现有的垂直式等离子蚀刻机的上料装置，物料车无法自动进出且运输时不稳定的问题；但是该装置只能单次单个进料，效率
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【技术保护点】
1.一种等离子蚀刻机，其特征在于：包括机体以及固设于所述机体中部的等离子体发生器；
2.根据权利要求1所述的一种等离子蚀刻机，其特征在于：所述机体的底部固设有防护罩体，所述防护罩体开设有蚀刻缺口，所述转盘转动连接在所述防护罩体内。
3.根据权利要求2所述的一种等离子蚀刻机，其特征在于：所述防护罩体由底座以及盖板组成，所述盖板与所述底座可拆卸连接。
4.根据权利要求3所述的一种等离子蚀刻机，其特征在于：所述底座的内圆周壁上固设有弧形导轨，所述转盘的外圆周壁上固设有与所述弧形导轨转动连接的弧形导向条。
5.根据权利要求1或4...
【技术特征摘要】
1.一种等离子蚀刻机，其特征在于：包括机体以及固设于所述机体中部的等离子体发生器；
2.根据权利要求1所述的一种等离子蚀刻机，其特征在于：所述机体的底部固设有防护罩体，所述防护罩体开设有蚀刻缺口，所述转盘转动连接在所述防护罩体内。
3.根据权利要求2所述的一种等离子蚀刻机，其特征在于：所述防护罩体由底座以及盖板组成，所述盖板与所述底座...
【专利技术属性】
技术研发人员：曹婷，张爽，
申请(专利权)人：超芯微科技苏州有限公司，
类型：新型
国别省市：
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