一种陶瓷覆铜板选择性粗化方法技术

技术编号:43285077 阅读:23 留言:0更新日期:2024-11-12 16:07
本发明专利技术公开了一种陶瓷覆铜板选择性粗化方法,包括下述制备步骤:S1在陶瓷与铜泊之间印刷一层活性钎焊料;S2制备陶瓷覆铜板;S3将烧结完成的陶瓷覆铜板进行铜蚀刻;S4去除不需的钎焊层;S5将图形化后的陶瓷覆铜板按工序清洗、清洗、粗化、清洗、酸洗、清洗、浸渍、干燥,并通过纳米硅及有机硅烷的填充;S6印刷热固湿膜,露出待表面处理区域;S7去除表面粗化结构;S8最后将的陶瓷覆铜板进过镀镍、化学沉银,再进行退膜形成最终的结构。本发明专利技术对比现有技术,具有下述有益效果:有效避免因为粗化表面窝状导致焊接空洞问题,表面焊接性好,同时焊接区凹面结构有效防止焊接过程焊料外溢,减少化银镀层微孔洞。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及陶瓷覆铜板,具体涉及一种陶瓷覆铜板选择性粗化方法


技术介绍

1、灌封凝胶工艺常应于功率器件,其胶水材质多为有机硅凝胶形式,以用灌封形式来实现对器件的保护和抵抗振动冲击,并起到防水防潮作用,实现密封功能,与塑封相比,灌封成本相较高。塑封采用的封装方式为转模成型,是从湿法铺层和注射工艺中演变而来的一种热固性塑料的成型方法,成本低,效率高,但塑封冷热冲击性能相对较差,边缘树脂容易与陶瓷衬板开裂。

2、目前,一方面可以通过树脂中偶联剂的添加、优化与无机介质间形成化学键来提高环氧树脂结合力,其次通过陶瓷覆铜板棕化处理提升与树脂结合力。专利号cn202310488289.5公开了棕化方案,通过化学键合作用与cu2o在铜表面形成粗糙的具有蜂窝状外貌的有机铜氧化层,在层压过程中,这种有机铜氧化膜层与树脂发生固化交联反应,可以提供更好的界面结合力。

3、棕化处理常用于多层板的压合处理,不能直接与芯片焊接,影响wb能力,过于粗糙结构在焊接层易形成焊接空洞,影响igbt模块可靠性;棕化膜耐酸能力强,酸洗难以有效去除,影响镀层结合力。...

【技术保护点】

1.一种陶瓷覆铜板选择性粗化方法,其特征在于,包括下述制备步骤:

2.根据权利要求1所述的陶瓷覆铜板选择性粗化方法,其特征在于,S1中钎焊层为Ag,其中,Ag的质量百分比为70~80%以上,其余为铜、TI及钕烯土。

3.根据权利要求1所述的陶瓷覆铜板选择性粗化方法,其特征在于,S5中,用粗化液进行粗化,所述粗化液为有机酸、氯化铜、络合物、铜缓蚀物、的任意一种或多种。

4.根据权利要求3所述的陶瓷覆铜板选择性粗化方法,其特征在于,所述粗化液为甲酸0.15-2.3mol/L,铜离子15-26g/L,二乙基二硫代氨基甲酸钠0.12-0.35g/L,2-硫醇基...

【技术特征摘要】

1.一种陶瓷覆铜板选择性粗化方法,其特征在于,包括下述制备步骤:

2.根据权利要求1所述的陶瓷覆铜板选择性粗化方法,其特征在于,s1中钎焊层为ag,其中,ag的质量百分比为70~80%以上,其余为铜、ti及钕烯土。

3.根据权利要求1所述的陶瓷覆铜板选择性粗化方法,其特征在于,s5中,用粗化液进行粗化,所述粗化液为有机酸、氯化铜、络合物、铜缓蚀物、的任意一种或多种。

4.根据权利要求3所述的陶瓷覆铜板选择性粗化方法,其特征在于,所述粗化液为甲酸0.15-2.3mol/l,铜离子15-26g/l...

【专利技术属性】
技术研发人员:黄世东季玮王海龙
申请(专利权)人:浙江德汇电子陶瓷有限公司
类型:发明
国别省市:

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